Crystal growth and electronic structures of fullerene / GaAs heterostructures
Crystal growth and electronic structures of fullerene / GaAs heterostructures
批准号:
23760293
负责人:
NISHINAGA Jiro
金额:
$2.91万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011 至 2012
中文摘要
富勒烯C_<60>分子在晶体基底上结晶成fcc结构。然而,C_<60>晶体由于结合能弱,非常脆弱,化学性质不稳定,很难将C_<60>晶体应用到实际器件中。本研究的动机是利用分子束外延(MBE)技术制备C60 / III-V型化合物半导体异质结构,这是分析外延生长过程中最常用的技术。我们主要研究了C_<60>分子在GaAs衬底上的外延生长特性,以及在GaAs晶格中使用C_<60>分子的新器件的开发,如红外探测器和存储器件。
英文摘要
Fullerene C_<60> molecules crystallize into a fcc structure on crystalline substrates. However, C_<60> crystals are very fragile and chemically unstable due to the weak binding energy, and it is very difficult to apply C_<60> crystals to practical devices. The motivation of this research is to fabricate C60 / III-V compound semiconductors heterostructures by using molecular beam epitaxy (MBE) which is the most used technique for the analysis of epitaxial growth process. We have concentrated on the study of characteristics of C_<60> epitaxial growth on GaAs substrates and the development of new devices using C_<60> molecules in GaAs lattices such as infrared detectors and memory devices.
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Growth and characterization of C60/GaAs interfaces and C60 doped GaAs
C60/GaAs 界面和 C60 掺杂 GaAs 的生长和表征
DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2010.11.068
发表时间:
2011
期刊:
J.Cryst.Growth
影响因子:
--
作者:
[J.Nishinaga, Y.Horikoshi]
通讯作者:
Y.Horikoshi
Electrical characteristics of C60, Si codoped GaAs layers grown by MEE
MEE 生长的 C60、Si 共掺杂 GaAs 层的电学特性
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[中嶋誠二,辻田陽介,瀬戸翔太, 藤沢浩訓,小舟正文,清水勝,朴正敏,金島岳,奥山雅則, 山崎浩司, 西永慈郎, 中嶋 誠二, Seiji Nakashima, 西永慈郎]
通讯作者:
西永慈郎
Molecular Beam Epitaxy
分子束外延
DOI:
10.1016/b978-0-12-387839-7.00007-5
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Batool Z]
通讯作者:
Batool Z
DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2010.12.051
发表时间:
2011-05
期刊:
Journal of Crystal Growth
影响因子:
1.8
作者:
[A. Kawaharazuka;K. Onomitsu;J. Nishinaga;Y. Horikoshi]
通讯作者:
A. Kawaharazuka;K. Onomitsu;J. Nishinaga;Y. Horikoshi
フラーレン添加GaAs pinダイオードの電気的特性
富勒烯掺杂GaAs pin二极管的电特性
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[J. Nishinaga, Seiji Nakashima, 西永慈郎]
通讯作者:
西永慈郎
共 30 条
Development of new devices using fullerene and GaAs heterostructures.
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批准号:20760203
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.75万
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财政年份:2008
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负责人:NISHINAGA Jiro
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依托单位:
海外基金