Surface hardening treatment of light metal materials using active screen plasma nitriding
Surface hardening treatment of light metal materials using active screen plasma nitriding
采用活性屏等离子渗氮对轻金属材料进行表面硬化处理
批准号：
24560896
负责人：
NISHIMOTO Akio
金额：
$3.24万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2012
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2012-04-01 至 2015-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
チタンダブルスクリーンを用いたアクティブスクリーンプラズマ窒化におけるN2/H2ガス比の影響
N2/H2气体比例对钛双层网主动屏等离子渗氮的影响
N2/H2气体比例对钛双层网主动屏等离子渗氮的影响
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[中澤邦成, 松川竜也, 西本明生]
通讯作者：
西本明生
異材スクリーンを用いたアクティブスクリーンプラズマ窒化におけるN2/H2ガス比の影響
N2/H2 气体比例对异种材料屏主动屏等离子渗氮的影响
N2/H2 气体比例对异种材料屏主动屏等离子渗氮的影响
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[西本明生, 中澤邦成, 松川竜也]
通讯作者：
松川竜也
チタン合金のアクティブスクリーンプラズマ窒化
钛合金活性屏等离子渗氮
钛合金活性屏等离子渗氮
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[木澤吉貴, 中澤邦成, 西本明生]
通讯作者：
西本明生
Effect of Surface Deposits from Screen on Active Screen Plasma Nitriding
丝网表面沉积物对活性丝网等离子渗氮的影响
丝网表面沉积物对活性丝网等离子渗氮的影响
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Akio NISHIMOTO, Tatsuya MATSUKAWA, Toshiya TANAKA]
通讯作者：
Toshiya TANAKA
海外基金