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Surface hardening treatment of light metal materials using active screen plasma nitriding
采用活性屏等离子渗氮对轻金属材料进行表面硬化处理
基本信息
- 批准号：24560896
- 负责人：
- 金额：$ 3.24万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2012
- 资助国家：日本
- 起止时间：2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
チタンダブルスクリーンを用いたアクティブスクリーンプラズマ窒化におけるN2/H2ガス比の影響
N2/H2气体比例对钛双层网主动屏等离子渗氮的影响
- DOI：
- 发表时间：
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：中澤邦成;松川竜也;西本明生
- 通讯作者：西本明生
異材スクリーンを用いたアクティブスクリーンプラズマ窒化におけるN2/H2ガス比の影響
N2/H2 气体比例对异种材料屏主动屏等离子渗氮的影响
- DOI：
- 发表时间：
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：西本明生;中澤邦成;松川竜也
- 通讯作者：松川竜也
Effect of Surface Deposits from Screen on Active Screen Plasma Nitriding
丝网表面沉积物对活性丝网等离子渗氮的影响
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Akio NISHIMOTO;Tatsuya MATSUKAWA;Toshiya TANAKA
- 通讯作者：Toshiya TANAKA
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