Systematic Studies on the Mechanism Elucidation of Tribromosilane Recovery Reaction for the High Conversion Efficiency

系统研究三溴硅烷回收反应的高转化率机理

• 批准号: 24760694
• 负责人: TOMONO KAZUAKI
• 金额: $ 2.41万
• 依托单位: Ube National College of Technology (2013)Yamaguchi University (2012)
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2014-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24760694/
• 关键词: 再資源化; 反応速度解析; ブロモシラン; 流通反応系; ハロゲン化シラン; 水素化反応; テトラブロモシラン; トリブロモシラン; 再生反応

Tribromosilane recovery reaction of vaporized tetrabromosilane with hydrogen gaseous has been monitored by mean of online gas chromatography in a flow reactor system. The tetrabromosilane conversion was reached to about 50 % at 700 C. An experiment with tetrachlorosilane under the same conditions led to a decrease in tetrachlorosilane conversion efficiency. This demonstrates that recovery reaction from tetrabromosilane to tribromosilane is energetically favorable compared to that of tetrachlorosilane, as predicted from the thermodynamic calculation for the pseudo first order reaction in a flow reactor. Finally, the rate constant for overall recovery reaction at 550 C and 600 C was measured to be 0.0162 /s and 0.128 /s, respectively.

在流动反应器系统中，用在线气相色谱法监测了四溴硅烷与氢气的气化回收反应。在700 ℃下四溴硅烷转化率达到约50%.在相同条件下使用四氯硅烷的实验导致四氯硅烷转化效率降低。这表明从四溴硅烷到三溴硅烷的回收反应与四氯硅烷的回收反应相比在能量上是有利的，如从流动反应器中的伪一级反应的热力学计算所预测的。最后，在550 ℃和600 ℃下测定的总回收反应的速率常数分别为0.0162 /s和0.128 /s。

项目成果

非水溶媒中でのSiBr4の電気化学的還元によるSi電析

非水溶剂中 SiBr4 电化学还原电沉积 Si

• 发表时间: 2013
• 作者: K. Tomono;H. Furuya;S. Miyamoto;Y. Okamura;M. Sumimoto;Y. Sakata;R. Komatsu;M. Nakayama;友野和哲,飯田龍也,坂口麻由美,中山雅晴;友野和哲，飯田龍也，坂口麻由美，中山雅晴;友野和哲,宮本成司,小川拓朗,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,小川拓朗,宮本成司,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,古屋博敏,宮本成司,小川拓朗,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,宮本成司,小川拓朗,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;古屋博敏,友野和哲,宮本成司,小川拓朗,中山雅晴;友野和哲,飯田龍也,坂口麻由美,山口亮太,中山雅晴;宮本成司,小川拓朗,押尚吾,友野和哲,小松隆一,中山雅晴;小川拓朗,宮本成司,押尚吾,友野和哲,小松隆一,中山雅晴;友野和哲，飯田龍也，坂口麻由美，山口亮太，中山雅晴
• 通讯作者: 友野和哲，飯田龍也，坂口麻由美，山口亮太，中山雅晴

廃シリコンの化学的精製のための前処理法の開発

废硅化学提纯预处理方法的研制

• 发表时间: 2012
• 作者: G. Kawamura;M. Kobayashi;S. Dai;K. Mukai;R. Sano;B. Peterson;Y. Feng;友野和哲,宮本成司,古屋博敏,岡村優樹,小松隆一,中山雅晴
• 通讯作者: 友野和哲,宮本成司,古屋博敏,岡村優樹,小松隆一,中山雅晴

Thermal Decomposition of Tetrabromosilane and Deposition of Crystalline Silicon

四溴硅烷的热分解与晶体硅的沉积

• DOI: 10.1016/j.mssp.2014.02.045
• 发表时间: 2014
• 期刊: Materials Science in Semiconductor Processing
• 影响因子: 4.1
• 作者: Masaharu Nakayama;Miyamoto Seiji;Takuro Ogawa;Shogo Osae;Kazuaki Tomono;Sumimoto Michinori;Yoshihisa Sakata;Ryuichi Komatsu
• 通讯作者: Ryuichi Komatsu

非水溶媒中でのSiBr_4の電気化学的還元によるSi電析

非水溶剂中 SiBr_4 电化学还原电沉积 Si

• 发表时间: 2013
• 作者: K. Tomono;H. Furuya;S. Miyamoto;Y. Okamura;M. Sumimoto;Y. Sakata;R. Komatsu;M. Nakayama;友野和哲,飯田龍也,坂口麻由美,中山雅晴;友野和哲，飯田龍也，坂口麻由美，中山雅晴;友野和哲,宮本成司,小川拓朗,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,小川拓朗,宮本成司,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,古屋博敏,宮本成司,小川拓朗,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,宮本成司,小川拓朗,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;古屋博敏,友野和哲,宮本成司,小川拓朗,中山雅晴;友野和哲,飯田龍也,坂口麻由美,山口亮太,中山雅晴
• 通讯作者: 友野和哲,飯田龍也,坂口麻由美,山口亮太,中山雅晴

ブロモシラン生成反応を用いた廃シリコンスラッジの前処理方法の開発

溴硅烷生产反应预处理废硅污泥方法的开发

• 发表时间: 2012
• 作者: K. Tomono;H. Furuya;S. Miyamoto;Y. Okamura;M. Sumimoto;Y. Sakata;R. Komatsu;M. Nakayama;友野和哲,飯田龍也,坂口麻由美,中山雅晴;友野和哲，飯田龍也，坂口麻由美，中山雅晴;友野和哲,宮本成司,小川拓朗,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,小川拓朗,宮本成司,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,古屋博敏,宮本成司,小川拓朗,小松隆一,中山雅晴;友野和哲,宮本成司,小川拓朗,古屋博敏,小松隆一,中山雅晴;古屋博敏,友野和哲,宮本成司,小川拓朗,中山雅晴;友野和哲,飯田龍也,坂口麻由美,山口亮太,中山雅晴;宮本成司,小川拓朗,押尚吾,友野和哲,小松隆一,中山雅晴;小川拓朗,宮本成司,押尚吾,友野和哲,小松隆一,中山雅晴;友野和哲，飯田龍也，坂口麻由美，山口亮太，中山雅晴;宮本成司，小川拓朗，押尚吾，友野和哲，小松隆一，中山雅晴;小川拓朗，宮本成司，押尚吾，友野和哲，小松隆一，中山雅晴;友野和哲，宮本成司，小川拓朗，古屋博敏，小松隆一，中山雅晴;友野和哲，古屋博敏，宮本成司，小川拓朗，小松隆一，中山雅晴;友野和哲・古屋博敏・宮本成司・小川拓朗・小松隆一・中山雅晴;友野和哲,古屋博敏,宮本成司,小川拓朗,小松隆一,中山雅晴;友野和哲・宮本成司・古屋博敏・小川拓朗・小松隆一・中山雅晴
• 通讯作者: 友野和哲・宮本成司・古屋博敏・小川拓朗・小松隆一・中山雅晴