Layer-number selective process for graphene using maskless ultra-violet laser irradiation

使用无掩模紫外激光照射的石墨烯层数选择工艺

• 批准号: 25420287
• 负责人: Wakaya Fujio
• 金额: $ 3.24万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2013
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2013-04-01 至 2016-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25420287/
• 关键词: グラフェン; レーザー加工; マスクレス加工; マスクレス

项目成果

マスクレス加工のためのグラフェンへの紫外レーザ照射（Ⅲ）

用于无掩模加工的石墨烯紫外激光照射（III）

• 发表时间: 2014
• 作者: Fujio Wakaya;Tadashi Kurihara;Nariaki Yurugi;Satoshi Abo;Masayuki Abe;and Mikio Takai;山田芳生，阿保智，若家冨士男，村上勝久，阿部真之，高井幹夫;萬木成彰，阿保智，若家冨士男，阿部真之，高井幹夫
• 通讯作者: 萬木成彰，阿保智，若家冨士男，阿部真之，高井幹夫

Maskless laser processing of graphene

石墨烯无掩模激光加工

• DOI: 10.1016/j.mee.2015.03.049
• 发表时间: 2014
• 期刊: Microelectronic Engineering
• 影响因子: 2.3
• 作者: Fujio Wakaya;Tadashi Kurihara;Nariaki Yurugi;Satoshi Abo;Masayuki Abe;Mikio Takai
• 通讯作者: Mikio Takai

X-ray Charge Neutralizer Using Carbon-Nanotube Field Emitter

使用碳纳米管场发射器的 X 射线电荷中和器

• 发表时间: 2015
• 作者: ○大島 佳祐;渡部 雄太;及川 貴大;稲葉 隆哲;王 春;Huaping Song;永田知子;橋本 拓也;高瀬 浩一;山本 寛;岩田 展幸;勝部大樹，山下隼人，阿保智，若家冨士男，阿部 真之;吉武道子，柳生進二郎，知京豊裕;山根智哉，手島朋祐，箕田充志;Fujio Wakaya
• 通讯作者: Fujio Wakaya

Effect of electron focusing in x-ray source using LiTaO_3 crystals excited by neodymium-doped yttrium lithium fluoride laser light

掺钕钇氟化锂激光激发LiTaO_3晶体X射线源中电子聚焦效应

• DOI: 10.1116/1.4864307
• 发表时间: 2014
• 期刊: Journal of Vacuum Science & Technology B
• 影响因子: 1.4
• 作者: Kosuke Nakahama;Michiaki Takahashi;Satoshi Abo;Fujio Wakaya;and Mikio Takai
• 通讯作者: and Mikio Takai

紫外レーザー照射によるグラフェンの層数選択プロセス

利用紫外激光照射的石墨烯层数选择过程

• 发表时间: 2013
• 作者: Stelian Arjoca;Encarnacion G Villora;Daisuke Inomata;Kazuo Aoki;Yoshiyuki Sugahara and Kiyoshi Shimamura;及川貴大・渡部雄太・大島佳祐・稲葉隆哲・宋 華平・永田知子・山本 寛・岩田展幸;栗原正志，若家冨士男，阿保智，高井幹夫
• 通讯作者: 栗原正志，若家冨士男，阿保智，高井幹夫