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Layer-number selective process for graphene using maskless ultra-violet laser irradiation

Layer-number selective process for graphene using maskless ultra-violet laser irradiation
使用无掩模紫外激光照射的石墨烯层数选择工艺
批准号：
25420287
负责人：
Wakaya Fujio
金额：
$3.24万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-25420287/
关键词：
グラフェンレーザー加工マスクレス加工マスクレス

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マスクレス加工のためのグラフェンへの紫外レーザ照射（Ⅲ）
用于无掩模加工的石墨烯紫外激光照射（III）
DOI： --
发表时间： 2014
期刊：
影响因子： --
作者： [Fujio Wakaya, Tadashi Kurihara, Nariaki Yurugi, Satoshi Abo, Masayuki Abe, and Mikio Takai, 山田芳生，阿保智，若家冨士男，村上勝久，阿部真之，高井幹夫, 萬木成彰，阿保智，若家冨士男，阿部真之，高井幹夫]
通讯作者： 萬木成彰，阿保智，若家冨士男，阿部真之，高井幹夫
Maskless laser processing of graphene
石墨烯无掩模激光加工
DOI： 10.1016/j.mee.2015.03.049
发表时间： 2014
期刊： Microelectronic Engineering
影响因子： 2.3
作者： [Fujio Wakaya, Tadashi Kurihara, Nariaki Yurugi, Satoshi Abo, Masayuki Abe, Mikio Takai]
通讯作者： Mikio Takai
X-ray Charge Neutralizer Using Carbon-Nanotube Field Emitter
使用碳纳米管场发射器的 X 射线电荷中和器
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [○大島 佳祐, 渡部 雄太, 及川 貴大, 稲葉 隆哲, 王 春, Huaping Song, 永田知子, 橋本 拓也, 高瀬 浩一, 山本 寛, 岩田 展幸, 勝部大樹，山下隼人，阿保智，若家冨士男，阿部 真之, 吉武道子，柳生進二郎，知京豊裕, 山根智哉，手島朋祐，箕田充志, Fujio Wakaya]
通讯作者： Fujio Wakaya
Effect of electron focusing in x-ray source using LiTaO_3 crystals excited by neodymium-doped yttrium lithium fluoride laser light
掺钕钇氟化锂激光激发LiTaO_3晶体X射线源中电子聚焦效应
DOI： 10.1116/1.4864307
发表时间： 2014
期刊： Journal of Vacuum Science & Technology B
影响因子： 1.4
作者： [Kosuke Nakahama, Michiaki Takahashi, Satoshi Abo, Fujio Wakaya, and Mikio Takai]
通讯作者： and Mikio Takai
共 15 条
    Study on nano metal detector using magnetic force microscopy
    • 批准号：
      18K04937
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.66万
    • 财政年份：
      2018
    • 负责人：
      Wakaya Fujio
    • 依托单位：
      Osaka University
    海外基金