Electrodeposition of copper on silicon studied with in-situ X-ray scattering
用原位 X 射线散射研究铜在硅上的电沉积
基本信息
- 批准号:25820373
- 负责人:
- 金额:$ 2.33万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2013
- 资助国家:日本
- 起止时间:2013-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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专利数量(0)
Anodic Oxidation of Silicon Observed In-Situ by Specular X-ray Reflectivity
通过镜面 X 射线反射率原位观察硅的阳极氧化
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Wolfgang Voegeli;E. Arakawa;C. Kamezawa;R. Iwami;T. Shirasawa and T. Matsushita
- 通讯作者:T. Shirasawa and T. Matsushita
Dynamical Response of the Electric Double Layer Structure of the DEME-TFSI Ionic Liquid to Potential Changes Observed by Time-Resolved X-ray Reflectivity
DEME-TFSI 离子液体的双电层结构对时间分辨 X 射线反射率观察到的电势变化的动态响应
- DOI:10.1515/zpch-2015-0669
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:W. Voegeli;E. Arakawa;T. Matsushita;O. Sakata;Y. Wakabayashi
- 通讯作者:Y. Wakabayashi
Observation of irreversible structural changes of surfaces and thin films with time-resolved X-ray reflectivity and diffraction
利用时间分辨 X 射线反射率和衍射观察表面和薄膜的不可逆结构变化
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Wolfgang Voegeli;Etsuo Arakawa;Tetsuroh Shirasawa;Toshio Takahashi;Yohko F. Yano;Tadashi Matsushita
- 通讯作者:Tadashi Matsushita
In-situ X-ray reflectivity observation of oxide growth during anodic oxidation of Si
Si阳极氧化过程中氧化物生长的原位X射线反射率观察
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:W. Voegeli;E. Arakawa;C. Kamezawa;R. Iwami;T. Shirasawa;T. Matsushita
- 通讯作者:T. Matsushita
その場X線反射率測定による薄膜成長の観察
通过原位 X 射线反射测量观察薄膜生长
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Voegeli Wolfgang;荒川悦雄;亀沢知夏;岩見隆太郎;白澤徹郎;松下正
- 通讯作者:松下正
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Voegeli Wolfgang其他文献
実験室X線源を用いた、時分割反射率計、回折計の開発
使用实验室X射线源开发时间分辨反射仪和衍射仪
- DOI:
- 发表时间:
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- 影响因子:0
- 作者:
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矢野陽子
Electric field effects on magnetic anisotropy in MgO/Pt/Fe/Pt (001): A density-functional study
电场对 MgO/Pt/Fe/Pt (001) 磁各向异性的影响:密度泛函研究
- DOI:
- 发表时间:
2010 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
倉橋光紀;山内泰;Voegeli Wolfgang;M. Tsujikawa - 通讯作者:
M. Tsujikawa
表面X線回折による二次元物質の構造解明
通过表面 X 射线衍射解析二维材料的结构
- DOI:
- 发表时间:
2019 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
白澤 徹郎;Voegeli Wolfgang;荒川悦雄;高橋敏男;Tetsuroh Shirasawa;白澤徹郎 - 通讯作者:
白澤徹郎
High-Speed Characterization of Surface, Interface, and Thinfilm Structures by Using Multi-Wavelength Dispersive X-ray Diffraction
使用多波长色散 X 射线衍射对表面、界面和薄膜结构进行高速表征
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
白澤徹郎;Voegeli Wolfgang;荒川悦雄;亀沢知夏;高橋敏男;松下正;白澤徹郎;Tetsuroh Shirasawa - 通讯作者:
Tetsuroh Shirasawa
波長分散型表面X線回折による固液界面反応のその場追跡
使用波长色散表面 X 射线衍射原位跟踪固液界面反应
- DOI:
- 发表时间:
2017 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
白澤徹郎;Voegeli Wolfgang;荒川悦雄;亀沢知夏;高橋敏男;松下正;白澤徹郎;Tetsuroh Shirasawa;Tetsuroh Shirasawa;白澤徹郎 - 通讯作者:
白澤徹郎
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- 批准号:
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- 资助金额:
$ 2.33万 - 项目类别:
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多結晶シリコン基板を用いたⅢ族窒化物半導体面状発光デバイスの開発に関する研究
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