Fabrication of epitaxial Ferrite thin films on Si substrates and their application to spintronic devices
Fabrication of epitaxial Ferrite thin films on Si substrates and their application to spintronic devices
硅衬底上外延铁氧体薄膜的制备及其在自旋电子器件中的应用
批准号：
26289086
负责人：
Nakane Ryosho
金额：
$10.65万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
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Growth, structure, and magnetic properties of epitaxial NiFe2O4 films grown on Si(111) substrates
Si(111) 衬底上外延 NiFe2O4 薄膜的生长、结构和磁性能
Si(111) 衬底上外延 NiFe2O4 薄膜的生长、结构和磁性能
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Okubo, T. Sakai, T. Furuyashiki, K. Kato, S. Okamoto, R. Nakane and M. Tanaka]
通讯作者：
R. Nakane and M. Tanaka
Epitaxial NiFe2O4 films grown on Si(111) substrates
在 Si(111) 衬底上生长的外延 NiFe2O4 薄膜
在 Si(111) 衬底上生长的外延 NiFe2O4 薄膜
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Y. M. Lu, S. Okamoto, N. Kikuchi, B. Lao, Y. Kusanagi, and O. Kitakami, 遠藤恭, R. Nakane and M. Tanaka]
通讯作者：
R. Nakane and M. Tanaka
Electronic structure and magnetic properties of magnetic dead layers in epitaxial CoFe2O4/Al2O3/Si(111) films studied by X-ray magnetic circular dichroism (XMCD)
X射线磁圆二色性（XMCD）研究外延CoFe2O4/Al2O3/Si(111)薄膜中磁死层的电子结构和磁性能
X射线磁圆二色性（XMCD）研究外延CoFe2O4/Al2O3/Si(111)薄膜中磁死层的电子结构和磁性能
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[2)Yuuki Wakabayashi, Yosuke Nonaka, Yukiharu Takeda, Shoya Sakamoto, Keisuke Ikeda, Zhendong Chi, Goro Shibata, Yuji Saitoh, Hiroshi Yamagami, Masaaki Tanaka, Atsushi Fujimori, and Ryosho Nakane]
通讯作者：
and Ryosho Nakane
Spin-dependent electron transport through Si-based magnetic tunnel junctions
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批准号：20H02199
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$11.32万
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财政年份：2020
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负责人：Nakane Ryosho
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依托单位：
海外基金
