High quality bulk-SiGe single-crystal growth methods for high-speed CPU

用于高速CPU的高质量块状SiGe单晶生长方法

基本信息

  • 批准号:
    15K04671
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.24万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2015
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2015-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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TLZ法を利用した均一組成バルクSiGe結晶(1)大口径化と高品質化
采用 TLZ 法制备均匀成分块状 SiGe 晶体 (1) 直径更大、质量更高
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木下 恭一;荒井 康智
  • 通讯作者:
    荒井 康智
TLZ法によるSiGe結晶育成中のメルト内対流効果
使用 TLZ 方法生长 SiGe 晶体过程中熔体的对流效应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木下 恭一;荒井 康智;稲冨裕光;塚田隆夫
  • 通讯作者:
    塚田隆夫
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  • 通讯作者:
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  • 通讯作者:
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