High quality bulk-SiGe single-crystal growth methods for high-speed CPU
用于高速CPU的高质量块状SiGe单晶生长方法
基本信息
- 批准号:15K04671
- 负责人:
- 金额:$ 3.24万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2015
- 资助国家:日本
- 起止时间:2015-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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TLZ法を利用した均一組成バルクSiGe結晶(1)大口径化と高品質化
采用 TLZ 法制备均匀成分块状 SiGe 晶体 (1) 直径更大、质量更高
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:木下 恭一;荒井 康智
- 通讯作者:荒井 康智
TLZ法によるSiGe結晶育成中のメルト内対流効果
使用 TLZ 方法生长 SiGe 晶体过程中熔体的对流效应
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:木下 恭一;荒井 康智;稲冨裕光;塚田隆夫
- 通讯作者:塚田隆夫
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Arai Yasutomo其他文献
Three-dimensional angle-resolved photoemission study of bulk SiGe single crystals
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- DOI:
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Tsukamoto Katsuo
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- 资助金额:
$ 3.24万 - 项目类别:
Standard Grant
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- 批准号:
2339644 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 3.24万 - 项目类别:
Continuing Grant
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