Fabrication of low-cost oxide LED without minor metals and toxic elements by atmospheric pressure film formation method
Fabrication of low-cost oxide LED without minor metals and toxic elements by atmospheric pressure film formation method
常压成膜法制备不含微量金属和有毒元素的低成本氧化物LED
批准号：
15K05991
负责人：
Nakamura Yusui
金额：
$3.16万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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DOI：
10.7567/apex.8.125502
发表时间：
2015-11
期刊：
Applied Physics Express
影响因子：
2.3
作者：
[H. Tanoue;T. Taniguchi;S. Wada;Shinya Yamamoto;Shohei Nakamura;Y. Naka;H. Yoshikawa;Mizue Munekata;S. Nagaoka;Yusui Nakamura]
通讯作者：
H. Tanoue;T. Taniguchi;S. Wada;Shinya Yamamoto;Shohei Nakamura;Y. Naka;H. Yoshikawa;Mizue Munekata;S. Nagaoka;Yusui Nakamura
Crystal Growth and Characterization of Undoped ZnO on m-plane Sapphire by Mist-CVD Technique with Different Carrier Gas Flow Rates
不同载气流量下雾气CVD技术在m面蓝宝石上生长未掺杂ZnO的晶体生长及表征
不同载气流量下雾气CVD技术在m面蓝宝石上生长未掺杂ZnO的晶体生长及表征
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hla Myo Tun, Thant Zin Win, Kensuke Minami, Satomi Teraya, Koushi Okita, Yusui Nakamura]
通讯作者：
Yusui Nakamura
DOI：
10.1002/pssa.201600603
发表时间：
2016-06
期刊：
2016 Compound Semiconductor Week (CSW) [Includes 28th International Conference on Indium Phosphide & Related Materials (IPRM) & 43rd International Symposium on Compound Semiconductors (ISCS)
影响因子：
--
作者：
[H. Tanoue;T. Yamashita;S. Wada;Zenji Yatabe;S. Nagaoka;Yusui Nakamura]
通讯作者：
H. Tanoue;T. Yamashita;S. Wada;Zenji Yatabe;S. Nagaoka;Yusui Nakamura
Epitaxial Growth of Non-polar ZnS on Sapphire Substrate by Mist Chemical Vapor Deposition
雾气化学气相沉积法在蓝宝石衬底上外延生长非极性ZnS
雾气化学气相沉积法在蓝宝石衬底上外延生长非极性ZnS
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Koshi Okita, Taiki Goto, Yudai Tanaka, Masato Takenouchi, Zenji Yatabe and Yusui Nakamura]
通讯作者：
Zenji Yatabe and Yusui Nakamura
Structural characteristics of a non-polar ZnS layer on a ZnO buffer layer formed on a sapphire substrate by mist chemical vapor deposition
雾气化学气相沉积法在蓝宝石衬底上形成ZnO缓冲层上非极性ZnS层的结构特征
雾气化学气相沉积法在蓝宝石衬底上形成ZnO缓冲层上非极性ZnS层的结构特征
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
[Koshi Okita, Katsuhiko Inaba, Zenji Yatabe, and Yusui Nakamura]
通讯作者：
and Yusui Nakamura
共 9 条