Investigation of a substrate with both high heat exhausting and elctro magnetic noise sielding layer for power supply on chip applications
Investigation of a substrate with both high heat exhausting and elctro magnetic noise sielding layer for power supply on chip applications
用于芯片应用电源的具有高散热和电磁噪声屏蔽层的基板的研究
批准号：
15H03965
负责人：
Matsumoto Satoshi
金额：
$10.73万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2018-03-31
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Synthesis of Flexible Graphene Transparent Conductive Films by Using Plasma Technique
等离子体技术合成柔性石墨烯透明导电薄膜
等离子体技术合成柔性石墨烯透明导电薄膜
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[M. Hasegawa, R. Kato, Y. Okigawa, S. Minami, M. Ishihara, and T. Yamada]
通讯作者：
and T. Yamada
Potential of the 3D stacking power SoC for high frequency switching applications
3D 堆叠电源 SoC 在高频开关应用中的潜力
3D 堆叠电源 SoC 在高频开关应用中的潜力
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Y. Ikeda, K. Hiura, Y. Hino, and S. Matsumoto]
通讯作者：
and S. Matsumoto
透明導電膜への応用のためのグラフェンのプラズマ合成
等离子体合成石墨烯在透明导电薄膜中的应用
等离子体合成石墨烯在透明导电薄膜中的应用
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Akitoshi Masuda, Yoshihiko Susuki, Satomi Sugaya, Manel Martinez-Ramon, Andrea Mammoli, and Atsushi Ishigame, 長谷川 雅考]
通讯作者：
長谷川 雅考
グラフェンの工業生産に向けた 量産技術
工业化生产石墨烯的量产技术
工业化生产石墨烯的量产技术
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[小島 千昭, 薄 良彦, Aranya Chakrabortty, 長谷川 雅考]
通讯作者：
長谷川 雅考
Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology(Empa)(スイス)
瑞士联邦材料科学与技术实验室(Empa)（瑞士）
瑞士联邦材料科学与技术实验室(Empa)（瑞士）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 44 条
Study on a substrate for ultra high density power supply on chip
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批准号：24360111
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$11.9万
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财政年份：2012
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负责人：Matsumoto Satoshi
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依托单位：