Development of Ultra-High Performance Sb-Based Teraherts Transistors
Development of Ultra-High Performance Sb-Based Teraherts Transistors
批准号:
16K06316
负责人:
Fujishiro Hiroki
金额:
$3.08万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31
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Electron Transport Properties of InSb/Ga0.35In0.65Sb Composite Channel Structure
InSb/Ga0.35In0.65Sb复合沟道结构的电子传输性能
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Fujikawa, T. Iwaki, Y. Harada, J.Takeuchi, Y.Endoh, I. Watanabe, Y. Yamashita, A. Endoh, S. Hara, and A. Kasamatsu, H. I. Fujishiro]
通讯作者:
H. I. Fujishiro
InSb HEMT with over 300 GHz-fT using stepped buffer layer for strain reduction
InSb HEMT 频率超过 300 GHz-fT,使用阶梯式缓冲层减少应变
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Fujikawa, K. Isono, Y. Harada, I. Watanabe, Y. Yamashita, A. Endoh, S. Hara, A. Kasamatsu, and H. I. Fujishiro]
通讯作者:
and H. I. Fujishiro
Improved Electron Transport Properties of Ga1-xInxSb Quantum Well Channel Using Strained-Al0.40In0.60Sb/Al1-yInySb Stepped Buffer
使用应变 Al0.40In0.60Sb/Al1-yInySb 阶梯缓冲器改进 Ga1-xInxSb 量子阱通道的电子传输特性
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[M. Hiraoka, Y. Endoh, K. Osawa, N. Kishimoto, T. Hayashi, R. Machida, A. Endoh, and H. I. Fujishiro]
通讯作者:
and H. I. Fujishiro
LT-AlSb成長がInSb HEMT構造の電気的特性に与える影響
LT-AlSb生长对InSb HEMT结构电性能的影响
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[遠藤 勇輝, 原田 義彬, 竹内 淳, 岩木 拓也, 町田 龍人, 藤代 博記]
通讯作者:
藤代 博記
InSb-based HEMTwith Over 300 GHz-fT using Al0.25In0.75Sb/Al0.15In0.85Sb stepped buffer layer for strain reduction
InSb 基 HEMT,频率超过 300 GHz-fT,使用 Al0.25In0.75Sb/Al0.15In0.85Sb 阶梯缓冲层减少应变
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Fujikawa, K. Isono, Y. Harada, I. Watanabe, Y. Yamashita, A. Endoh, S. Hara, A. Kasamatsu, and H. I. Fujishiro]
通讯作者:
and H. I. Fujishiro
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