Development of Ultra-High Performance Sb-Based Teraherts Transistors

超高性能锑基太赫兹晶体管的开发

基本信息

  • 批准号:
    16K06316
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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Electron Transport Properties of InSb/Ga0.35In0.65Sb Composite Channel Structure
InSb/Ga0.35In0.65Sb复合沟道结构的电子传输性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Fujikawa;T. Iwaki;Y. Harada;J.Takeuchi;Y.Endoh;I. Watanabe;Y. Yamashita;A. Endoh;S. Hara;and A. Kasamatsu;H. I. Fujishiro
  • 通讯作者:
    H. I. Fujishiro
InSb HEMT with over 300 GHz-fT using stepped buffer layer for strain reduction
InSb HEMT 频率超过 300 GHz-fT,使用阶梯式缓冲层减少应变
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Fujikawa;K. Isono;Y. Harada;I. Watanabe;Y. Yamashita;A. Endoh;S. Hara;A. Kasamatsu;and H. I. Fujishiro
  • 通讯作者:
    and H. I. Fujishiro
Improved Electron Transport Properties of Ga1-xInxSb Quantum Well Channel Using Strained-Al0.40In0.60Sb/Al1-yInySb Stepped Buffer
使用应变 Al0.40In0.60Sb/Al1-yInySb 阶梯缓冲器改进 Ga1-xInxSb 量子阱通道的电子传输特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Hiraoka;Y. Endoh;K. Osawa;N. Kishimoto;T. Hayashi;R. Machida;A. Endoh;and H. I. Fujishiro
  • 通讯作者:
    and H. I. Fujishiro
LT-AlSb成長がInSb HEMT構造の電気的特性に与える影響
LT-AlSb生长对InSb HEMT结构电性能的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    遠藤 勇輝;原田 義彬;竹内 淳;岩木 拓也;町田 龍人;藤代 博記
  • 通讯作者:
    藤代 博記
InSb-based HEMTwith Over 300 GHz-fT using Al0.25In0.75Sb/Al0.15In0.85Sb stepped buffer layer for strain reduction
InSb 基 HEMT,频率超过 300 GHz-fT,使用 Al0.25In0.75Sb/Al0.15In0.85Sb 阶梯缓冲层减少应变
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S. Fujikawa;K. Isono;Y. Harada;I. Watanabe;Y. Yamashita;A. Endoh;S. Hara;A. Kasamatsu;and H. I. Fujishiro
  • 通讯作者:
    and H. I. Fujishiro
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    Fujikawa Sachie;Ishiguro Toshiya;Wang Ke;Terashima Wataru;Fujishiro Hiroki;Hirayama Hideki
  • 通讯作者:
    Hirayama Hideki

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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{{ showInfoDetail.title }}

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