Development of high hardness plastic window with conductivity and stain resistance
Development of high hardness plastic window with conductivity and stain resistance
开发具有导电性和耐污性的高硬度塑料窗
批准号：
16K06754
负责人：
NOJIRI HIDETOSHI
金额：
$3.08万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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Crack suppression of silica glass formed by zoned F2 laser-induced photochemical surface modification of hard silicone thin film coating on polycarbonate
分区F2激光诱导聚碳酸酯硬硅薄膜涂层光化学表面改性形成的石英玻璃裂纹抑制
分区F2激光诱导聚碳酸酯硬硅薄膜涂层光化学表面改性形成的石英玻璃裂纹抑制
DOI：
10.7567/jjap.55.122701
发表时间：
2016
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
[H. Nojiri, M. Okoshi]
通讯作者：
M. Okoshi
DOI：
10.7567/jjap.56.072002
发表时间：
2017-07-01
期刊：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子：
1.5
作者：
[Nojiri, Hidetoshi, Pambudi, Wisnu Setyo, Okoshi, Masayuki]
通讯作者：
Okoshi, Masayuki
Crack suppression of SiO2 thin film formed by 157nm F2 laser induced photochemical surface modification of hard silicone coating film on polycarbonate
157nm F2激光诱导聚碳酸酯硬硅涂层膜光化学表面改性形成的SiO2薄膜裂纹抑制
157nm F2激光诱导聚碳酸酯硬硅涂层膜光化学表面改性形成的SiO2薄膜裂纹抑制
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[野尻秀智, 大越昌幸, H. Nojiri and M. Okoshi]
通讯作者：
H. Nojiri and M. Okoshi
ポリカーボネート上シリコーン膜表面に形成したF2レーザー誘起SiO2 改質膜のクラック抑制(3)
聚碳酸酯上有机硅薄膜表面形成的 F2 激光诱导 SiO2 改性薄膜裂纹的抑制 (3)
聚碳酸酯上有机硅薄膜表面形成的 F2 激光诱导 SiO2 改性薄膜裂纹的抑制 (3)
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[野尻秀智, 大越昌幸]
通讯作者：
大越昌幸
樹脂ガラス板及びその製造方法
树脂玻璃板及其制造方法
树脂玻璃板及其制造方法
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
共 19 条