Development of high hardness plastic window with conductivity and stain resistance

开发具有导电性和耐污性的高硬度塑料窗

• 批准号: 16K06754
• 负责人: NOJIRI HIDETOSHI
• 金额: $ 3.08万
• 依托单位: Kanagawa University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2016
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2016-04-01 至 2019-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16K06754/
• 关键词: ポリカーボネート; 光化学改質; 真空紫外光; 撥水性; 耐熱性; 帯電防止; 導電性; エキシマランプ; F2レーザー; 樹脂窓; シリコーン樹脂; 光改質; 超撥水性; 172nm; 222nm; 組成変化層; 深さ選択性; プラズマ処理; レーザー加工; 表面処理

项目成果

Crack suppression of silica glass formed by zoned F2 laser-induced photochemical surface modification of hard silicone thin film coating on polycarbonate

分区F2激光诱导聚碳酸酯硬硅薄膜涂层光化学表面改性形成的石英玻璃裂纹抑制

• DOI: 10.7567/jjap.55.122701
• 发表时间: 2016
• 期刊: Jpn. J. Appl. Phys.
• 作者: H. Nojiri;M. Okoshi
• 通讯作者: M. Okoshi

Formation of periodic microswelling structures on silicone rubber surface using ArF excimer laser to realize superhydrophobic property

• DOI: 10.7567/jjap.56.072002
• 发表时间: 2017-07-01
• 期刊: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
• 影响因子: 1.5
• 作者: Nojiri, Hidetoshi;Pambudi, Wisnu Setyo;Okoshi, Masayuki
• 通讯作者: Okoshi, Masayuki

Crack suppression of SiO2 thin film formed by 157nm F2 laser induced photochemical surface modification of hard silicone coating film on polycarbonate

157nm F2激光诱导聚碳酸酯硬硅涂层膜光化学表面改性形成的SiO2薄膜裂纹抑制

• 发表时间: 2017
• 作者: 野尻秀智; 大越昌幸;H. Nojiri and M. Okoshi
• 通讯作者: H. Nojiri and M. Okoshi

ポリカーボネート上シリコーン膜表面に形成したF2レーザー誘起SiO2 改質膜のクラック抑制(3)

聚碳酸酯上有机硅薄膜表面形成的 F2 激光诱导 SiO2 改性薄膜裂纹的抑制 (3)

• 发表时间: 2017
• 作者: 野尻秀智;大越昌幸
• 通讯作者: 大越昌幸

樹脂ガラス板及びその製造方法

树脂玻璃板及其制造方法

• 发表时间: 2017