New sputter deposition process for hydroxide thin films using water vapor injection
New sputter deposition process for hydroxide thin films using water vapor injection
使用水蒸气注入的氢氧化物薄膜新溅射沉积工艺
批准号：
16K06788
负责人：
Abe Yoshio
金额：
$3.08万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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水蒸気スパッタ法を用いたクロム酸化物薄膜の高速成膜
蒸汽溅射法高速沉积氧化铬薄膜
蒸汽溅射法高速沉积氧化铬薄膜
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[王ハン, 阿部良夫, 川村みどり, 金 敬鎬, 木場隆之]
通讯作者：
木場隆之
Metallic mode reactive sputtering of Ni oxide thin films and their electrochromic properties
Ni氧化物薄膜的金属模式反应溅射及其电致变色性能
Ni氧化物薄膜的金属模式反应溅射及其电致变色性能
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yuki Yokoiwa, Yoshio Abe, Midori Kawamura, Kyung Ho Kim, Takayuki Kiba]
通讯作者：
Takayuki Kiba
Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature
液氮温度下反应溅射沉积氧化镍薄膜
液氮温度下反应溅射沉积氧化镍薄膜
DOI：
10.7567/jjap.56.088004
发表时间：
2017
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
[Yoshio Abe, Shun Yamauchi, Midori Kawamura, Kyung Ho Kim, Takayuki Kiba, Akira Narai]
通讯作者：
Akira Narai
Investigation of target state by plasma emission and target voltage measurements for reactive sputtering of Ni oxide thin films with water vapor injection
通过等离子体发射和水蒸气注入反应溅射镍氧化物薄膜的靶电压测量来研究靶状态
通过等离子体发射和水蒸气注入反应溅射镍氧化物薄膜的靶电压测量来研究靶状态
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yuki Yokoiwa, Yoshio Abe, Midori Kawamura, Kyung Ho Kim, Takayuki Kiba]
通讯作者：
Takayuki Kiba
水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化ニッケル薄膜の作製
水蒸气溅射法靶材条件的控制及氧化镍薄膜的制备
水蒸气溅射法靶材条件的控制及氧化镍薄膜的制备
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[横岩佑城, 阿部良夫, 川村みどり, 金敬鎬, 木場隆之]
通讯作者：
木場隆之
共 12 条
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