刷新
{{item.name}}会员
New sputter deposition process for hydroxide thin films using water vapor injection
使用水蒸气注入的氢氧化物薄膜新溅射沉积工艺
基本信息
- 批准号：16K06788
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Metallic mode reactive sputtering of Ni oxide thin films and their electrochromic properties
Ni氧化物薄膜的金属模式反应溅射及其电致变色性能
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yuki Yokoiwa;Yoshio Abe;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature
液氮温度下反应溅射沉积氧化镍薄膜
- DOI：10.7567/jjap.56.088004
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Yoshio Abe;Shun Yamauchi;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba;Akira Narai
- 通讯作者：Akira Narai
Investigation of target state by plasma emission and target voltage measurements for reactive sputtering of Ni oxide thin films with water vapor injection
通过等离子体发射和水蒸气注入反应溅射镍氧化物薄膜的靶电压测量来研究靶状态
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yuki Yokoiwa;Yoshio Abe;Midori Kawamura;Kyung Ho Kim;Takayuki Kiba
- 通讯作者：Takayuki Kiba
水蒸気スパッタ法におけるターゲット状態の制御と酸化ニッケル薄膜の作製
水蒸气溅射法靶材条件的控制及氧化镍薄膜的制备
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：横岩佑城;阿部良夫;川村みどり;金敬鎬;木場隆之
- 通讯作者：木場隆之
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
Abe Yoshio其他文献
アルミニウム合金の加工熱処理工程における組織形成機構の解明
阐明铝合金热处理过程中的组织形成机制
- DOI：
- 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Kiba Takayuki;Iijima Natsumi;Yanome Kazuki;Kawamura Midori;Abe Yoshio;Kim Kyung Ho;Takase Mai;Higo Akio;Takayama Junichi;Hiura Satoshi;Murayama Akihiro;池田賢一 - 通讯作者：
池田賢一
摩擦攪拌点接合技術を利用したアルミナとマグネシウムを含むアルミニウム合金との接合
使用搅拌摩擦点连接技术连接氧化铝和含镁铝合金
- DOI：
- 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Yokoiwa Yuki;Abe Yoshio;Kawamura Midori;Kim Kyung Ho;Kiba Takayuki;園村 浩介，尾崎 友厚，片桐 一彰，長谷川 泰則，田中 努，垣辻 篤 - 通讯作者：
園村 浩介，尾崎 友厚，片桐 一彰，長谷川 泰則，田中 努，垣辻 篤
Abe Yoshio的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
相似海外基金
基板表面性状制御によるニッケル酸化物薄膜の高濃度水素貯蔵性能の創出
通过控制基材表面性质创造高浓度氧化镍薄膜储氢性能
- 批准号：
24K08248 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
マグノン演算素子に向けた鉄酸化物薄膜におけるスピン波の伝搬特性と制御
磁振子运算元件氧化铁薄膜中自旋波传播特性及控制
- 批准号：
24KJ0767 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Ir置換ペロブスカイト型マンガン酸化物薄膜における特異な超伝導的挙動の解明
阐明铱取代钙钛矿型氧化锰薄膜中独特的超导行为
- 批准号：
24K08239 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
遷移金属酸化物薄膜による水素イオン誘起量子物性開拓と化学デバイス応用
利用过渡金属氧化物薄膜开发氢离子诱导的量子物理性质和化学器件应用
- 批准号：
23K26738 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
遷移金属酸化物薄膜による水素イオン誘起量子物性開拓と化学デバイス応用
利用过渡金属氧化物薄膜开发氢离子诱导的量子物理性质和化学器件应用
- 批准号：
23H02045 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
薄膜成長プロセス制御による複合酸化物薄膜の強磁性化
通过控制薄膜生长过程制备铁磁性复合氧化物薄膜
- 批准号：
22K18903 - 财政年份：2022
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
酸化物薄膜の低ダメージ高速堆積技術の開発とメカニズムの解明
氧化物薄膜低损伤高速沉积技术的开发及机理阐明
- 批准号：
21K04887 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
透明酸化物薄膜トランジスタによるセンサ・オン・フィルムの創成
使用透明氧化物薄膜晶体管创建薄膜传感器
- 批准号：
20J23326 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
ポーラロン伝導酸化物薄膜の熱電特性に関する研究
极化子导电氧化物薄膜热电性能研究
- 批准号：
17J01281 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
軟Ｘ線分光による時間・空間分解した遷移金属酸化物薄膜の磁性
使用软 X 射线光谱在时间和空间上解析过渡金属氧化物薄膜的磁性
- 批准号：
17F17327 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows