A nanotechnology platform established in average science laboratories

在普通科学实验室建立的纳米技术平台

基本信息

  • 批准号:
    16K00992
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2016
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2016-04-01 至 2019-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
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科研費による研究成果の社会還元・普及事業へのシリコン太陽電池作製教材の応用
硅太阳能电池生产材料应用科研补助金科研成果社会回报与传播
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    萩原康仁・松原憲治;大野将史・関三翠里・小椿清隆・松原憲治;谷本薫彦・荒尾真一・松原憲治;萩原康仁・松原憲治;松原憲治;後藤顕一・松原憲治;Kenji MATSUBARA・Hideo IKEDA;松原 憲治・萩原 康仁・須原愛記・山田亜紀子;大野将史・関三翠里・小椿清隆・松原憲治;谷本薫彦・荒尾真一・松原憲治;萩原康仁・松原憲治;Kenji Matsubara・Yasuhito Hagiwara・Masahumi Yamashita;Kenji MATSUBARA・Hideo IKEDA;松原 憲治・萩原 康仁・須原愛記・山田亜紀子;松原憲治;濵谷 成樹,田口  哲,井上 祥史;濵谷 成樹,田口  哲;田口 哲,渕上 哲,仲鉢大地;田口 哲,大滝優実,渕上 哲,仲鉢大地,柚木朋也;濵谷成樹,田口 哲;濵谷成樹,田口 哲;中野 智文,田口 哲;中野智文,田口 哲;田口 哲;田口 哲,渕上 哲,仲鉢大地;田口 哲・渕上 哲・仲鉢 大地;田口 哲・大滝 優実・渕上 哲・仲鉢 大地・柚木 朋也;斉藤千映美;斉藤千映美;橋本勝・伊藤勇馬・平谷萌子・斉藤千映美;黒澤巧・平谷萌子・斉藤千映美;斉藤千映美・伊藤勇馬;斉藤 千映美;斉藤千映美;斉藤千映美・渡辺孝男・鵜川義弘;斉藤千映美;斉藤千映美;辻琢人,長岡史郎,大谷真弘;辻琢人,長岡史郎,若原昭浩;加藤敦士(指導教員:辻琢人);辻琢人,長岡史郎,若原昭浩
  • 通讯作者:
    辻琢人,長岡史郎,若原昭浩
Nano-SciTech Centre/Institute of Science/UiTM(マレーシア)
纳米科技中心/科学研究所/UiTM(马来西亚)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Pressure Dependence of Photoresist Removal Rate Using Hydrogen Radicals
使用氢自由基去除光刻胶速率的压力依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Yamamoto;T. Shiroi;S. Nagaoka;T. Shikama;H. Umemoto;K. Ohdaira;T. Nishiyama and H. Horibe
  • 通讯作者:
    T. Nishiyama and H. Horibe
A study for reducing pattern position alignment error of a simplified photo lithography method for the nanotech platform established at the average science laboratory
普通科学实验室建立的纳米技术平台的简化光刻方法减少图案位置对准误差的研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Kunisawa;M. Yamamoto;T. Shimizu;R. W. Johnston;F. Shimokawa;H. Horibe;M. Rusop;and S. Nagaoka
  • 通讯作者:
    and S. Nagaoka
Boron Selective Thermal Diffusion for the Simplified pMOS FET Fabrication Process
用于简化 pMOS FET 制造工艺的硼选择性热扩散
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    西園寺嶺,長岡史郎;辻琢人,山本雅史,R.W.Jhonston,堀邊英夫,清水共
  • 通讯作者:
    辻琢人,山本雅史,R.W.Jhonston,堀邊英夫,清水共
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Nagaoka Shiro其他文献

Effects of Nitrogen Dilution on the Photoresist Removal Rate by Hydrogen Radicals
氮气稀释对氢自由基去除光刻胶速率的影响
  • DOI:
    10.2494/photopolymer.33.427
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0.8
  • 作者:
    Yamamoto Masashi;Nishioka Hiroto;Akita Koki;Nagaoka Shiro;Umemoto Hironobu;Horibe Hideo
  • 通讯作者:
    Horibe Hideo
Removal of Novolac Photoresist with Various Concentrations of Photo-active Compound Using H<sub>2</sub>/O<sub>2</sub> Mixtures Activated on a Tungsten Hot-wire Catalyst
利用钨热丝催化剂活化的 H<sub>2</sub>/O<sub>2</sub> 混合物去除不同浓度光活性化合物的酚醛清漆光刻胶
  • DOI:
    10.2494/photopolymer.34.499
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0.8
  • 作者:
    Akita Koki;Sogo Shota;Sogame Ryusei;Yamamoto Masashi;Nagaoka Shiro;Umemoto Hironobu;Horibe Hideo
  • 通讯作者:
    Horibe Hideo
Evaluation of Decomposition Property of Photoresist by Oxygen Radicals Using Helium-Oxygen Mixtures
使用氦氧混合物评估氧自由基对光刻胶的分解性能
  • DOI:
    10.2494/photopolymer.33.433
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0.8
  • 作者:
    Yamamoto Masashi;Akita Koki;Nagaoka Shiro;Umemoto Hironobu;Horibe Hideo
  • 通讯作者:
    Horibe Hideo
Relationship between Oxygen Additive Amount and Photoresist Removal Rate Using H Radicals Generated on an Iridium Hot-Wire Catalyst
氧添加量与使用铱热丝催化剂产生的 H 自由基的光刻胶去除率之间的关系
  • DOI:
    10.2494/photopolymer.32.609
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0.8
  • 作者:
    Yamamoto Masashi;Shiroi Tomohiro;Shikama Tomokazu;Nagaoka Shiro;Umemoto Hironobu;Horibe Hideo
  • 通讯作者:
    Horibe Hideo

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    $ 2.58万
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