Processing of wide-bandgap material with intense EUV light
Processing of wide-bandgap material with intense EUV light
用强 EUV 光加工宽带隙材料
批准号：
17K05727
负责人：
Tanaka Nozomi
金额：
$2.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
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会议论文
Laser Produced Plasma EUV source for Materials Testing
用于材料测试的激光产生等离子体 EUV 源
用于材料测试的激光产生等离子体 EUV 源
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Nozomi Tanaka, Kosuke Takagaki, and Hiroaki Nishimura]
通讯作者：
and Hiroaki Nishimura
EMPA(スイス)
EMPA（瑞士）
EMPA（瑞士）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
EMPA (スイス連邦材料試験研究所)(スイス)
EMPA（瑞士联邦材料测试研究所）（瑞士）
EMPA（瑞士联邦材料测试研究所）（瑞士）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Study of dynamical extreme ultraviolet radiation driven material interactions
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批准号：20K03893
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.75万
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财政年份：2020
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负责人：Tanaka Nozomi
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依托单位：
Study of plasma properties of EUV material ablation by particle diagnostics
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批准号：25800303
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项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额：$2.66万
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财政年份：2013
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负责人：Tanaka Nozomi
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依托单位：