Development of high throughput metal nano patterns stacking method
Development of high throughput metal nano patterns stacking method
高通量金属纳米图案堆叠方法的开发
批准号：
17K06091
负责人：
Taniguchi Jun
金额：
$2.83万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
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会议论文
Fabrication of overlaid nanopattern arrays for plasmon memory
用于等离子体存储的重叠纳米图案阵列的制造
用于等离子体存储的重叠纳米图案阵列的制造
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Takao Okabe, Hisahiro Wadayama, Jun Taniguchi]
通讯作者：
Jun Taniguchi
DOI：
10.1016/j.mee.2018.02.020
发表时间：
2018-06-05
期刊：
MICROELECTRONIC ENGINEERING
影响因子：
2.3
作者：
[Wadayama, Hisahiro, Okabe, Takao, Taniguchi, Jun]
通讯作者：
Taniguchi, Jun
Establishment of nano metal pattern transfer technique using roll nanoimprint method
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批准号：25420067
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$3.16万
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财政年份：2013
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负责人：Taniguchi Jun
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依托单位：