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Development of high throughput metal nano patterns stacking method
高通量金属纳米图案堆叠方法的开发
基本信息
- 批准号：17K06091
- 负责人：
- 金额：$ 2.83万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2017
- 资助国家：日本
- 起止时间：2017-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Fabrication of overlaid nanopattern arrays for plasmon memory
用于等离子体存储的重叠纳米图案阵列的制造
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Takao Okabe;Hisahiro Wadayama;Jun Taniguchi
- 通讯作者：Jun Taniguchi
Fabrication of multilayered structure of silver nanorod arrays for plasmon memory
- DOI：10.1016/j.mee.2018.02.020
- 发表时间：2018-06-05
- 期刊：
- 影响因子：2.3
- 作者：Wadayama, Hisahiro;Okabe, Takao;Taniguchi, Jun
- 通讯作者：Taniguchi, Jun
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- 作者：
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Taniguchi Jun
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