Reduction of transient enhanced diffusion in Si by F co-implantation

通过 F 共注入减少 Si 中的瞬态增强扩散

基本信息

  • 批准号:
    17K06397
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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プリアモルファス化Si中のフッ素のホウ素拡散抑制
氟在预非晶化硅中硼扩散的抑制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木我 亮太郎,植松 真司;伊藤 公平
  • 通讯作者:
    伊藤 公平
Simultaneous observation of the diffusion of self-atoms and co-implanted boron and fluorine in pre-amorphized silicon investigated by isotope heterostructures
同位素异质结构同时观察预非晶硅中自原子和共注入硼、氟的扩散
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ryotaro Kiga;Masashi Uematsu;Kohei M. Itoh
  • 通讯作者:
    Kohei M. Itoh
シリコン同位体周期構造を用いた共注入フッ素・ホウ素と自己拡散の同時観測
利用硅同位素周期结构同时观察氟/硼共注入和自扩散
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木我 亮太郎,植松 真司;伊藤 公平
  • 通讯作者:
    伊藤 公平
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Uematsu Masashi其他文献

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  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shimizu Tsunashi;Akiyama Toru;Nakamura Kohji;Ito Tomonori;Kageshima Hiroyuki;Uematsu Masashi;Shiraishi Kenji;中村 航;劉 鋭安,宮田 全展,小矢野 幹夫
  • 通讯作者:
    劉 鋭安,宮田 全展,小矢野 幹夫
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    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Shimizu Tsunashi;Akiyama Toru;Nakamura Kohji;Ito Tomonori;Kageshima Hiroyuki;Uematsu Masashi;Shiraishi Kenji
  • 通讯作者:
    Shiraishi Kenji
Ab initio calculations for the effect of wet oxidation condition on the reaction mechanism at 4H-SiC/SiO2 interface
从头计算湿式氧化条件对4H-SiC/SiO2界面反应机理的影响
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ab85dd
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Shimizu Tsunashi;Akiyama Toru;Pradipto Abdul-Muizz;Nakamura Kohji;Ito Tomonori;Kageshima Hiroyuki;Uematsu Masashi;Shiraishi Kenji
  • 通讯作者:
    Shiraishi Kenji
Effects of Wet Ambient on Dry Oxidation Processes at 4H-SiC/SiO2 Interface: An Ab Initio Study
潮湿环境对 4H-SiC/SiO2 界面干氧化过程的影响:从头算研究
  • DOI:
    10.1149/09803.0037ecst
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shimizu Tsunashi;Akiyama Toru;Nakamura Kohji;Ito Tomonori;Kageshima Hiroyuki;Uematsu Masashi;Shiraishi Kenji
  • 通讯作者:
    Shiraishi Kenji

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  • 资助金额:
    $ 3.08万
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    1981
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)
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