Exploring novel properties of atomic layers via controlled interface-reduction of graphene oxide under microscopic observations

在微观观察下通过氧化石墨烯的受控界面还原探索原子层的新特性

基本信息

  • 批准号:
    17K06769
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.24万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2017
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2017-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Arsenic-induced faceted lateral nanoprisms array on Si (1 0 3) surface
Si(103)表面砷诱导的多面横向纳米棱柱阵列
  • DOI:
    10.1016/j.apsusc.2018.08.255
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    6.7
  • 作者:
    X. J. Wang;S. Daniele;J-Z. Wang;Y. Fujikawa;C. L. Huang;T. Sakurai;G. Chen
  • 通讯作者:
    G. Chen
酸化グラフェン還元過程の顕微観察下制御
显微观察下氧化石墨烯还原过程的控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Xing-Jun Wang;Daniele Scopece;Jun-Zhong Wang;Yasunori Fujikawa;Chun-Lai Huang;Toshio Sakurai;Gang Chen;藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
  • 通讯作者:
    藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
金属表面上における酸化グラフェンの熱安定性
金属表面氧化石墨烯的热稳定性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    渡邊慶太郎;小幡誠司;斉木幸一朗;藤川安仁
  • 通讯作者:
    藤川安仁
酸化グラフェンの再グラフェン化における炭素添加効果
碳添加对氧化石墨烯再石墨化的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Xing-Jun Wang;Daniele Scopece;Jun-Zhong Wang;Yasunori Fujikawa;Chun-Lai Huang;Toshio Sakurai;Gang Chen;藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗;藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
  • 通讯作者:
    藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
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Fujikawa Yasunori其他文献

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