Exploring novel properties of atomic layers via controlled interface-reduction of graphene oxide under microscopic observations
在微观观察下通过氧化石墨烯的受控界面还原探索原子层的新特性
基本信息
- 批准号:17K06769
- 负责人:
- 金额:$ 3.24万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2017
- 资助国家:日本
- 起止时间:2017-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Arsenic-induced faceted lateral nanoprisms array on Si (1 0 3) surface
Si(103)表面砷诱导的多面横向纳米棱柱阵列
- DOI:10.1016/j.apsusc.2018.08.255
- 发表时间:2018
- 期刊:
- 影响因子:6.7
- 作者:X. J. Wang;S. Daniele;J-Z. Wang;Y. Fujikawa;C. L. Huang;T. Sakurai;G. Chen
- 通讯作者:G. Chen
酸化グラフェン還元過程の顕微観察下制御
显微观察下氧化石墨烯还原过程的控制
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Xing-Jun Wang;Daniele Scopece;Jun-Zhong Wang;Yasunori Fujikawa;Chun-Lai Huang;Toshio Sakurai;Gang Chen;藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
- 通讯作者:藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
酸化グラフェンの再グラフェン化における炭素添加効果
碳添加对氧化石墨烯再石墨化的影响
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Xing-Jun Wang;Daniele Scopece;Jun-Zhong Wang;Yasunori Fujikawa;Chun-Lai Huang;Toshio Sakurai;Gang Chen;藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗;藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
- 通讯作者:藤川 安仁,本間 啓輔,日端 羽衣音, 小幡 誠司,斉木 幸一朗
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