Exploring novel properties of atomic layers via controlled interface-reduction of graphene oxide under microscopic observations
Exploring novel properties of atomic layers via controlled interface-reduction of graphene oxide under microscopic observations
在微观观察下通过氧化石墨烯的受控界面还原探索原子层的新特性
批准号：
17K06769
负责人：
Fujikawa Yasunori
金额：
$3.24万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
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Arsenic-induced faceted lateral nanoprisms array on Si (1 0 3) surface
Si（103）表面砷诱导的多面横向纳米棱柱阵列
Si（103）表面砷诱导的多面横向纳米棱柱阵列
DOI：
10.1016/j.apsusc.2018.08.255
发表时间：
2018
期刊：
Applied Surface Science
影响因子：
6.7
作者：
[X. J. Wang, S. Daniele, J-Z. Wang, Y. Fujikawa, C. L. Huang, T. Sakurai, G. Chen]
通讯作者：
G. Chen
酸化グラフェン還元過程の顕微観察下制御
显微观察下氧化石墨烯还原过程的控制
显微观察下氧化石墨烯还原过程的控制
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Xing-Jun Wang, Daniele Scopece, Jun-Zhong Wang, Yasunori Fujikawa, Chun-Lai Huang, Toshio Sakurai, Gang Chen, 藤川 安仁，本間 啓輔，日端 羽衣音， 小幡 誠司，斉木 幸一朗]
通讯作者：
藤川 安仁，本間 啓輔，日端 羽衣音， 小幡 誠司，斉木 幸一朗
酸化グラフェンの再グラフェン化における炭素添加効果
碳添加对氧化石墨烯再石墨化的影响
碳添加对氧化石墨烯再石墨化的影响
DOI：
--
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Xing-Jun Wang, Daniele Scopece, Jun-Zhong Wang, Yasunori Fujikawa, Chun-Lai Huang, Toshio Sakurai, Gang Chen, 藤川 安仁，本間 啓輔，日端 羽衣音， 小幡 誠司，斉木 幸一朗, 藤川 安仁，本間 啓輔，日端 羽衣音， 小幡 誠司，斉木 幸一朗]
通讯作者：
藤川 安仁，本間 啓輔，日端 羽衣音， 小幡 誠司，斉木 幸一朗
金属表面上における酸化グラフェンの熱安定性
金属表面氧化石墨烯的热稳定性
金属表面氧化石墨烯的热稳定性
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[渡邊慶太郎, 小幡誠司, 斉木幸一朗, 藤川安仁]
通讯作者：
藤川安仁
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