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Creation of new nitride skyrmion for energy-saving deveices
用于节能器件的新型氮化物斯格明子的制备
基本信息
- 批准号：17K19054
- 负责人：
- 金额：$ 4.16万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
- 财政年份：2017
- 资助国家：日本
- 起止时间：2017-06-30 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
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Asano Hidefumi其他文献
Exploring the Border between Physics and Statistics: Spontaneous Processes from the Decrease of Information
探索物理学与统计学之间的边界：信息减少的自发过程
- DOI：
- 发表时间：
2018 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Ishino Sunao;So Jongmin;Goto Hirotaka;Hajiri Tetsuya;Asano Hidefumi;Francesco Buscemi - 通讯作者：
Francesco Buscemi
Asano Hidefumi的其他文献
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{{ truncateString('Asano Hidefumi', 18)}}的其他基金
Giant magnetotransport properties achieved by noncolinear magnetic nitrides
非线性磁性氮化物实现的巨磁输运特性
- 批准号：
20H02602 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
相似海外基金
応力腐食割れ防止のための高密着性窒化物薄膜の開発
开发高附着性氮化物薄膜以防止应力腐蚀开裂
- 批准号：
25420027 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
The removal tests for organic chemical film by micro ice jets
微冰射流去除有机化学膜试验
- 批准号：
24760153 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
シリコン上縦型発光素子を目指した導電性バッファ層上窒化物薄膜の高品質化
提高硅上垂直发光器件导电缓冲层上氮化物薄膜的质量
- 批准号：
23360320 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
構造転移の有無を制御する新規なエピタキシー効果による金属窒化物薄膜の物性制御
使用控制结构转变存在或不存在的新型外延效应来控制金属氮化物薄膜的物理性质
- 批准号：
19655076 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
低温窒化法による金層窒化物薄膜の形成
低温氮化法形成金层氮化物薄膜
- 批准号：
14655233 - 财政年份：2002
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Exploratory Research
窒化物薄膜の水素添加構造変調による新機能誘起
通过氮化物薄膜的氢化结构调制诱导新功能
- 批准号：
01J10106 - 财政年份：2001
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
レーザービームプロセスにおけるナノ組織高機能窒化物薄膜の量子加工設計
激光束工艺纳米结构高性能氮化物薄膜的量子制造设计
- 批准号：
13750672 - 财政年份：2001
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
低抵抗金属窒化物薄膜の透明導電膜への適用
低电阻金属氮化物薄膜在透明导电薄膜中的应用
- 批准号：
09750916 - 财政年份：1997
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
磁場印加反応性スパッタリング法による高品位硬質窒化物薄膜の高速成長
磁场反应溅射法高速生长高质量硬质氮化物薄膜
- 批准号：
09750123 - 财政年份：1997
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
パルスレーザー照射による金属窒化物薄膜の生成
脉冲激光照射生成金属氮化物薄膜
- 批准号：
03750544 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 4.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)