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Fabrication of room-temperature multiferroic materials by rare-earth iron oxide system with triangular lattices
三角晶格稀土氧化铁系室温多铁材料的制备
基本信息
- 批准号：18H02057
- 负责人：
- 金额：$ 11.23万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
エピタキシャル YbFe2O4薄膜のドメイン構造制御と磁気特性
外延YbFe2O4薄膜的畴结构控制及磁性能
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Y. Shuang;S. Hatayama;Y. Sutou;D. Ando;J. Koike;H. Tanimura;T. Ichitsubo;野崎 真由 ，大田 怜佳 ，阪上 拓巳 ，狩野 旬 ，池田 直 ，藤井 達生;野崎 真由 ，阪上 拓巳 ，狩野 旬 ，池田 直 ，藤井 達生
- 通讯作者：野崎 真由 ，阪上 拓巳 ，狩野 旬 ，池田 直 ，藤井 達生
スパッタ法によるYbFe2O4/Fe3O4多層膜の作製と磁気特性
溅射法制备YbFe2O4/Fe3O4多层薄膜及磁性能
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：阪上 拓巳;西村 和泰;中西 真;狩野 旬;池田 直;藤井 達生
- 通讯作者：藤井 達生
Epitaxial YbFe2O4 thin films on Fe3O4 buffer layers by reactive sputtering technique
采用反应溅射技术在 Fe3O4 缓冲层上外延 YbFe2O4 薄膜
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：H. Nakahata;K. Nishimura;N. Ikeda;and T. Fujii
- 通讯作者：and T. Fujii
三角格子系希土類鉄酸化物におけるエピタキシャル薄膜の面内配向制御
三角晶格稀土铁氧化物外延薄膜的面内取向控制
- DOI：
- 发表时间：2022
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：齊藤 雄太;須藤 祐司;フォンス ポール;コロボフ アレクサンダー;進藤 怜史;畑山 祥吾;雙 逸;コジーナ ゼニア;スケルトン ジョナサン;小林 啓介;藤井達生
- 通讯作者：藤井達生
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Induced magnetization on non-magnetic nanoparticles by surface structural relaxations
通过表面结构弛豫对非磁性纳米粒子诱导磁化
- 批准号：
26630319 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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11630143 - 财政年份：1999
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21H01617 - 财政年份：2021
- 资助金额：
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- 批准号：
12J08258 - 财政年份：2012
- 资助金额：
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Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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- 批准号：
10J08411 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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- 批准号：
10J56282 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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- 批准号：
08J05725 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
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基于层状氧化钴外延薄膜的高性能热电转换材料设计研究
- 批准号：
07J03272 - 财政年份：2007
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Si上の光-電子融合デバイス集積を目指したβ-FeSi_2エピタキシャル薄膜合成
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非鉛強誘電体エピタキシャル薄膜における電界誘起相転移を用いた巨大圧電応答
无铅铁电外延薄膜中利用电场诱导相变的巨压电响应
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16656098 - 财政年份：2004
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
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