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Development of a plasma bonding process by reaction control of plasma-liquid interface

Development of a plasma bonding process by reaction control of plasma-liquid interface
通过等离子体-液体界面的反应控制开发等离子体键合工艺
批准号:
21K18619
负责人:
Uchida Giichiro
金额:
$4.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2021-07-09 至 2023-03-31

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樹脂/金属異材接合のためのプラズマジェット熱圧接法の開発
树脂/金属异种材料等离子射流热压焊接方法的开发
DOI: --
发表时间: 2021
期刊:
影响因子: --
作者: [内田儀一郎, 竹中弘祐, 節原裕一]
通讯作者: 節原裕一
大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料-金属異材接合技術の開発
常压非平衡等离子体射流有机材料-金属异种材料键合技术的开发
DOI: --
发表时间: 2023
期刊:
影响因子: --
作者: [竹中弘祐, 中本壮太郞, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一]
通讯作者: 節原裕一
大気圧プラズマの可視化研究
大气压等离子体可视化研究
DOI: --
发表时间: 2022
期刊:
影响因子: --
作者: [竹中弘祐, 中本壮太郞, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一, 内田儀一郎]
通讯作者: 内田儀一郎
大気圧RFプラズマジェットを用いた異材接合プロセスの開発
使用大气压射频等离子射流开发异种材料连接工艺
DOI: --
发表时间: 2022
期刊:
影响因子: --
作者: [陣田尭哉, 中本壮太郞, 都甲将, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一]
通讯作者: 節原裕一
共 7 条
    Development of Ge nanoparticle film by using inflight plasma process for Li ion butteries
    • 批准号:
      26390097
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.24万
    • 财政年份:
      2014
    • 负责人:
      Uchida Giichiro
    • 依托单位: