Development of a plasma bonding process by reaction control of plasma-liquid interface
Development of a plasma bonding process by reaction control of plasma-liquid interface
批准号:
21K18619
负责人:
Uchida Giichiro
金额:
$4.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2021-07-09 至 2023-03-31
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樹脂/金属異材接合のためのプラズマジェット熱圧接法の開発
树脂/金属异种材料等离子射流热压焊接方法的开发
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[内田儀一郎, 竹中弘祐, 節原裕一]
通讯作者:
節原裕一
大気圧非平衡プラズマジェットを用いた有機材料-金属異材接合技術の開発
常压非平衡等离子体射流有机材料-金属异种材料键合技术的开发
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
影响因子:
--
作者:
[竹中弘祐, 中本壮太郞, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一]
通讯作者:
節原裕一
大気圧プラズマの可視化研究
大气压等离子体可视化研究
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[竹中弘祐, 中本壮太郞, 小鑓亮輔, 都甲将, 内田儀一郎, 節原裕一, 内田儀一郎]
通讯作者:
内田儀一郎
大気圧RFプラズマジェットを用いた異材接合プロセスの開発
使用大气压射频等离子射流开发异种材料连接工艺
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[陣田尭哉, 中本壮太郞, 都甲将, 竹中弘祐, 内田儀一郎, 節原裕一]
通讯作者:
節原裕一
Development of a non-thermal atmospheric pressure plasma-assisted technology for the direct joining of metals with dissimilar materials
开发用于金属与异种材料直接连接的非热常压等离子体辅助技术
DOI:
10.1016/j.jmapro.2022.01.041
发表时间:
2022
期刊:
Journal of Manufacturing Processes
影响因子:
6.2
作者:
[Kosuke Takenaka, Rikuro Machida, Tetsuya Bono, Akiya Jinda, Susumu Toko, Giichiro Uchida, Yuichi Setsuhara]
通讯作者:
Yuichi Setsuhara
共 7 条
Development of Ge nanoparticle film by using inflight plasma process for Li ion butteries
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批准号:26390097
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.24万
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财政年份:2014
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负责人:Uchida Giichiro
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依托单位: