Development of Ge nanoparticle film by using inflight plasma process for Li ion butteries

利用飞行等离子体工艺开发用于锂离子电池的Ge纳米粒子薄膜

基本信息

  • 批准号：
    26390097
  • 负责人：
    Uchida Giichiro
  • 金额：
    $ 3.24万
  • 依托单位：
    Osaka University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2014
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）
反応性微粒子プラズマプロセスを用いたゲルマニウム結晶ナノ粒子含有膜の堆積と量子ドット太陽電池への応用
使用反应粒子等离子体工艺沉积含锗晶体纳米颗粒薄膜及其在量子点太阳能电池中的应用
  • DOI：
  • 发表时间：
    2015
  • 期刊：
    スマートプロセス学会誌
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    内田儀一郎;市田大樹;徐鉉雄;古閑一憲;白谷正治
  • 通讯作者：
    白谷正治
Measurements of Ar Metastable Atom and Void Structure in Reactive Dusty Plasma
活性尘埃等离子体中Ar亚稳原子和空洞结构的测量
  • DOI：
  • 发表时间：
    2015
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    G. Uchida;K. Koga;M. Shiratani
  • 通讯作者：
    M. Shiratani
微粒子プラズマプロセスの開発とナノ粒子デバイスへの応用展開
粒子等离子体工艺的发展及其在纳米粒子器件中的应用
  • DOI：
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Takumi Araya;Takashi Shibata;Hiroki Kikuchi;Seiji Mukaigawa;Koichi Takaki;内田儀一郎
  • 通讯作者：
    内田儀一郎
Development of atmospheric pressure plasma sources for energy device materials processing
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  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    G.Uchida;T.Ito;Y.Mino;K.Takenaka;Y.Setsuhara
  • 通讯作者：
    Y.Setsuhara
Deposition of crystalline Ge nanoparticle films by high-pressure RF magnetron sputtering method
  • DOI：
    10.1088/1742-6596/518/1/012002
  • 发表时间：
    2014-06
  • 期刊：
    Journal of Physics: Conference Series
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    D. Ichida;G. Uchida;H. Seo;K. Kamataki;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
  • 通讯作者：
    D. Ichida;G. Uchida;H. Seo;K. Kamataki;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
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  • 影响因子：
    1.5
  • 作者：
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  • 通讯作者：
    Setsuhara Yuichi
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  • 期刊：
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  • 影响因子：
    1.5
  • 作者：
    Takenaka Kosuke;Yoshitani Tomoki;Endo Masashi;Hirayama Hiroyuki;Toko Susumu;Uchida Giichiro;Ebe Akinori;Setsuhara Yuichi
  • 通讯作者：
    Setsuhara Yuichi

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  • 资助金额：
    $ 3.24万
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