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Development of Ge nanoparticle film by using inflight plasma process for Li ion butteries
利用飞行等离子体工艺开发用于锂离子电池的Ge纳米粒子薄膜
基本信息
- 批准号：26390097
- 负责人：
- 金额：$ 3.24万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2014
- 资助国家：日本
- 起止时间：2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
反応性微粒子プラズマプロセスを用いたゲルマニウム結晶ナノ粒子含有膜の堆積と量子ドット太陽電池への応用
使用反应粒子等离子体工艺沉积含锗晶体纳米颗粒薄膜及其在量子点太阳能电池中的应用
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：内田儀一郎;市田大樹;徐鉉雄;古閑一憲;白谷正治
- 通讯作者：白谷正治
Measurements of Ar Metastable Atom and Void Structure in Reactive Dusty Plasma
活性尘埃等离子体中Ar亚稳原子和空洞结构的测量
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：G. Uchida;K. Koga;M. Shiratani
- 通讯作者：M. Shiratani
微粒子プラズマプロセスの開発とナノ粒子デバイスへの応用展開
粒子等离子体工艺的发展及其在纳米粒子器件中的应用
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Takumi Araya;Takashi Shibata;Hiroki Kikuchi;Seiji Mukaigawa;Koichi Takaki;内田儀一郎
- 通讯作者：内田儀一郎
Deposition of crystalline Ge nanoparticle films by high-pressure RF magnetron sputtering method
- DOI：10.1088/1742-6596/518/1/012002
- 发表时间：2014-06
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：D. Ichida;G. Uchida;H. Seo;K. Kamataki;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
- 通讯作者：D. Ichida;G. Uchida;H. Seo;K. Kamataki;N. Itagaki;K. Koga;M. Shiratani
Development of atmospheric pressure plasma sources for energy device materials processing
用于能源器件材料加工的大气压等离子体源的开发
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：G.Uchida;T.Ito;Y.Mino;K.Takenaka;Y.Setsuhara
- 通讯作者：Y.Setsuhara
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Uchida Giichiro其他文献
Low-temperature formation of high-mobility a-InGaZnOx films using plasma-enhanced reactive processes
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- 影响因子：1.5
- 作者：
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Setsuhara Yuichi
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Setsuhara Yuichi
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- 批准号：
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- 资助金额：
$ 3.24万 - 项目类别：
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- 批准号：
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- 资助金额：
$ 3.24万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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- 批准号：
19K03809 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 3.24万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study of plasma-induced reactions in a microdroplet
微滴中等离子体诱导反应的研究
- 批准号：
16H05988 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 3.24万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)