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Creation of Acoustic Resonance Imaging Technique and Challenge to Visualize the Quality of Thin Polymer Layers

声共振成像技术的创建和可视化薄聚合物层质量的挑战

基本信息

批准号：
21K18664
负责人：
Tohmyoh Hironori
金额：
$ 4.08万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2021
资助国家：
日本
起止时间：
2021-07-09 至 2023-03-31
项目状态：
已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

音響共鳴映像法によるフォトレジスト膜の品質評価について

利用声共振成像法评价光刻胶膜的质量

DOI：
发表时间：
2023
期刊：
影响因子：
0
作者：
キムヘリン;燈明泰成
通讯作者：
燈明泰成

音響共鳴を利用したフォトレジスト膜の音響物性値と膜厚の測定について

利用声共振测量光刻胶膜的声学特性和膜厚

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
キムヘリン;燈明泰成
通讯作者：
燈明泰成

マイクロ／ナノ材料の接合・改質・評価～より有効に微細材料を活用するために～

微纳米材料的接合、改性及评价 - 更有效地利用精细材料 -

DOI：
发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
0
作者：
H. Kim;H. Tohmyoh;燈明泰成
通讯作者：
燈明泰成

Evaluation of Quality of Thick Photoresist Film by Acoustic Resonant Imaging Technique

声共振成像技术评价光刻胶厚膜的质量

DOI：
10.1116/6.0002459
发表时间：
2023
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology B
影响因子：
1.4
作者：
H. Kim;H. Tohmyoh
通讯作者：
H. Tohmyoh

Acoustic Study of Photoresist Films Formed on Silicon Substrate with Different Coating Conditions

不同涂覆条件下硅基底上形成的光刻胶膜的声学研究

DOI：
发表时间：
2022
期刊：
影响因子：
0
作者：
H. Kim;H. Tohmyoh
通讯作者：
H. Tohmyoh

DOI：
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