Spin-polarized STM study on chiral molecules

手性分子的自旋极化 STM 研究

基本信息

  • 批准号：
    21K18888
  • 负责人：
    Oka Hirofumi
  • 金额：
    $ 4.16万
  • 依托单位：
    Tohoku University
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
  • 财政年份：
    2021
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2021-07-09 至 2023-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
スピン依存トンネル電流を利用したナノ磁性・局所スピン物性の開拓
利用自旋相关隧道电流开发纳米磁性和局域自旋物理性质
  • DOI：
  • 发表时间：
    2022
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Taguchi Taiki;Sugawara Katsuaki;Oka Hirofumi;Kawakami Tappei;Saruta Yasuaki;Kato Takemi;Nakayama Kosuke;Souma Seigo;Takahashi Takashi;Fukumura Tomoteru;Sato Takafumi;岡　博文
  • 通讯作者：
    岡　博文
Charge order with unusual star-of-David lattice in monolayer NbTe2
单层 NbTe2 中异常大卫星晶格的电荷顺序
  • DOI：
    10.1103/physrevb.107.l041105
  • 发表时间：
    2023
  • 期刊：
    Physical Review B
  • 影响因子：
    3.7
  • 作者：
    Taguchi Taiki;Sugawara Katsuaki;Oka Hirofumi;Kawakami Tappei;Saruta Yasuaki;Kato Takemi;Nakayama Kosuke;Souma Seigo;Takahashi Takashi;Fukumura Tomoteru;Sato Takafumi
  • 通讯作者：
    Sato Takafumi
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  • 发表时间：
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  • 作者：
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Josephson coupling through atomically thin van der Waals magnet
通过原子薄范德华磁体的约瑟夫森耦合
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Oka Hirofumi;Okada Yoshinori;Hitosugi Taro;Fukumura Tomoteru;Hiroshi Idzuchi
  • 通讯作者：
    Hiroshi Idzuchi
Controlled synthesis of high-quality 2D materials for electronic and photonic applications
用于电子和光子应用的高质量二维材料的受控合成
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Oka Hirofumi;Okada Yoshinori;Kaminaga Kenichi;Oka Daichi;Hitosugi Taro;Fukumura Tomoteru;平井瑠夏，渡邉貴一，小野努;H. Ago
  • 通讯作者：
    H. Ago
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  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
    ACS Nano
  • 影响因子：
    17.1
  • 作者：
    Qi Zhi Kun;Mishra Puneet;Ara Ferdous;Oka Hirofumi;Sainoo Yasuyuki;Katoh Keiichi;Yamashita Masahiro;Komeda Tadahiro
  • 通讯作者：
    Komeda Tadahiro
Width-induced metal?insulator transition in SrVO3 lateral nanowires spontaneously formed on the ultrathin film
超薄膜上自发形成的 SrVO3 横向纳米线的宽度诱导金属绝缘体转变
  • DOI：
    10.1063/5.0018240
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
    Applied Physics Letters
  • 影响因子：
    4
  • 作者：
    Oka Hirofumi;Okada Yoshinori;Kaminaga Kenichi;Oka Daichi;Hitosugi Taro;Fukumura Tomoteru
  • 通讯作者：
    Fukumura Tomoteru
Two distinct surface terminations of SrVO3 (001) ultrathin films as an influential factor on metallicity
SrVO3 (001) 超薄膜的两个不同的表面终端作为金属丰度的影响因素
  • DOI：
    10.1063/1.5051434
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
    Applied Physics Letters
  • 影响因子：
    4
  • 作者：
    Oka Hirofumi;Okada Yoshinori;Hitosugi Taro;Fukumura Tomoteru
  • 通讯作者：
    Fukumura Tomoteru

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    $ 4.16万
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  • 财政年份：
    2024
  • 资助金额：
    $ 4.16万
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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