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偏光反射法によるニッケル不働態皮膜の研究

偏光反射法によるニッケル不働態皮膜の研究
偏振反射法镍钝化膜的研究
批准号：
56750508
负责人：
大塚 俊明
金额：
$0.51万
依托单位：
Hokkaido University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1981
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1981 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-56750508/
关键词：

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光機能電極構築のための疎水場界面・ポルフィリン化合物分子膜
  • 批准号：
    14050004
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $1.22万
  • 财政年份：
    2002
  • 负责人：
    大塚 俊明
  • 依托单位：
    Hokkaido University
ミニマムメンテナンスを目指した耐候性鋼材のさびサイエンス
  • 批准号：
    12895017
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额：
    $1.79万
  • 财政年份：
    2000
  • 负责人：
    大塚 俊明
  • 依托单位：
    Hokkaido University
構造を制御した薄膜酸化物で被われた金属電極での表面準位と電子移動反応
  • 批准号：
    11118204
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
  • 资助金额：
    $1.22万
  • 财政年份：
    1999
  • 负责人：
    大塚 俊明
  • 依托单位：
    Hokkaido University
構造を制御した薄膜酸化物で被われた金属電極での表面準位と電子移動速度
  • 批准号：
    10131234
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
  • 资助金额：
    $1.02万
  • 财政年份：
    1998
  • 负责人：
    大塚 俊明
  • 依托单位：
    Hokkaido University