その場ナノ観察・結晶方位解析による自立金属ナノ薄膜の疲労き裂進展の支配力学の解明

通过原位纳米观察和晶体取向分析阐明独立金属纳米薄膜中疲劳裂纹扩展的控制动力学

基本信息

  • 批准号:
    13J00585
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.15万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本年度は, 電子ビーム蒸着法により製膜した膜厚が500nmの自立銅(Cu)ナノ薄膜を対象とした疲労き裂進展試験を実施するとともに, その場ナノ観察・結晶方位解析手法を用いて疲労き裂進展特性と進展機構を明らかにした. さらに, 金属バルク材の疲労き裂進展特性・進展機構との違いを明らかにした.疲労き裂進展特性に及ぼす応力比の影響を検討した結果, 疲労き裂進展速度da/dNを応力拡大係数範囲ΔKで整理すると, 応力比が大きいほどda/dNが大きくなる応力比依存性が全ΔK領域で見られた, つぎに, da/dNを最大応力拡大係数K_<max>で再整理すると, K_<max>が大きい領域(高K_<max>領域)では応力比に関わらずda/dNはK_<max>に支配された. この領域では, 引張破壊モードが支配的な進展機構であった, 一方, K_<max>が小さい領域(低K_<max>領域)では応力比が小さいほどda/dNが大きくなる応力比依存性が見られた. この領域の進展機構は, 応力比が大きい場合は高K_<max>領域と同様に引張破壊モードが支配的であった. 一方, 応力比が小さい場合は, 疲労き裂先端前方の双晶境界近傍の双晶塊界に平行なすべり面において, 面外損傷である入込み・突出しを形成し, これらと主き裂が合体することにより疲労き裂が進展する機構であった, この進展機構は, 金属バルク材の疲労き裂進展機構とは大きく異なった.さらに, 電界放射型走査電子顕微鏡(FESEM)内引張試験機を開発し, これを用いて自立Cuナノ薄膜の疲労き裂の開閉口挙動をその場高倍率FESEM観察した結果, 自立Cuナノ薄膜の疲労き裂においてもき裂閉口が生じることを明らかにした, さらに, き裂開閉口挙動のFESEM像を基に有効応力拡大係数範囲ΔK_<eff>を求めた. これを用いてda/dNを整理した結果, 低K_<max>領域のda/dNをΔKで整理した場合に見られたda/dNの応力比依存性は, き裂閉口に起因する可能性があることを示した. さらに, da/dNをΔKeffで整理した場合, バルク材に比べてda/dNが大きいことを明らかにした.
This year, the electron evaporation method was used to prepare films with a film thickness of 500nm, and the free-standing copper (Cu) thin film was used to prepare images and crack progress tests. In this paper, metal alloy material fatigue crack development characteristics, development mechanism and violation of the law. As a result of the investigation of fatigue crack progression characteristics and the influence of force ratio, the fatigue crack progression rate da/dN<max><max><max>, the force ratio, the force ratio, the <max>force The domain of this domain is the domain in which the dominant progressive mechanism is introduced. The domain in which K_<max>is small (the domain in which K_is low) is the domain in which the dominant force ratio is small (the domain in which K_<max>is low). The progress mechanism of this field is opposite, the force ratio is high, the K_<max>field is opposite, the same is opposite, the tension is opposite, the dominant is opposite. On the other hand, when the force ratio is small, the twin boundary near the front of the fatigue crack tip is parallel to the plane, and the out-of-plane damage is formed into the protrusion. The main crack body is formed into the fatigue crack progression mechanism. The progression mechanism is different from that of the metal crack. In the meantime, the field emission scanning electron microscope (FESEM) internal tension tester was developed to examine the fatigue crack and opening and closing motion of the self-supporting Cu thin film with high magnification FESEM. As a result, the fatigue crack and opening motion of the self-supporting Cu thin film were observed with high magnification FESEM<eff>. The da/dN <max>ratio dependence of the da/dN ratio in the low K domain is shown in the following table. In this case, da/dN ΔKeff is arranged in the same way as da/dN.

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Effects of stress ratio on fatigue crack propagation properties of submicron-thick free-standing copper films
  • DOI:
    10.1016/j.actamat.2013.07.017
  • 发表时间:
    2013-09
  • 期刊:
  • 影响因子:
    9.4
  • 作者:
    T. Kondo;Takahiro Imaoka;H. Hirakata;Masayuki Sakihara;K. Minoshima
  • 通讯作者:
    T. Kondo;Takahiro Imaoka;H. Hirakata;Masayuki Sakihara;K. Minoshima
結晶方位解析による自立銅ナノ薄膜の疲労き裂発生強度の力学的評価
使用晶体取向分析对自支撑铜纳米薄膜的疲劳裂纹萌生强度进行机械评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    畢暁晨;近藤俊之;平方寛之;箕島弘二
  • 通讯作者:
    箕島弘二
Characteristic mechanism of fatigue crack propagation in submicron-thick freestanding copper films
亚微米厚独立铜膜疲劳裂纹扩展特征机制
  • DOI:
    10.1016/j.mspro.2014.06.090
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Kondo;H. Hirakata;M. Sakihara;K. Minoshima
  • 通讯作者:
    K. Minoshima
ナノ観察とEBSD 援用応力解析による自立銅ナノ薄膜の疲労損傷発生機構の解明
利用纳米观察和 EBSD 辅助应力分析阐明自支撑铜纳米薄膜的疲劳损伤产生机制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    近藤俊之;畢暁晨;田村拓;平方寛之;箕島弘二
  • 通讯作者:
    箕島弘二
Mechanics of fatigue crack propagation in submicron-thick freestanding copper films
亚微米厚独立铜膜中疲劳裂纹扩展的机制
  • DOI:
    10.4028/www.scientific.net/amr.891-892.1681
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hiroyuki Hirakata;Toshiyuki Kondo;Masayuki Sakihara;Kohji Minoshima
  • 通讯作者:
    Kohji Minoshima
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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    2024
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{{ showInfoDetail.title }}

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