アニオン種の光励起を基軸とした14族元素化合物の新規合成法の開発
开发基于阴离子光激发的14族元素化合物新合成方法
基本信息
- 批准号:22KJ1145
- 负责人:
- 金额:$ 2.18万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:2023
- 资助国家:日本
- 起止时间:2023-03-08 至 2025-03-31
- 项目状态:未结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
14 族元素(ケイ素・ゲルマニウム・スズ)を含む化合物は、汎用性の高いビルディングブロックとしての利用が期待されています。そのため 14 族元素の導入反応は、半世紀以上も前から研究されており、カチオン・アニオン・ラジカル種など様々な化学種を用いた反応が開発されてきました。当該年度は、14 族元素の中でも、「ゲルマニウム (Ge) 」に着目しました。ゲルマニウムはケイ素とスズの間に位置する 14 族元素であり、ケイ素とスズの中間の反応性を示すことが期待されます。実際に、ケイ素よりも脂溶性が高い一方で、スズとは異なり毒性が全くないことが知られています。しかしながらゲルミル化反応は、スタニル化反応、シリル化反応と比較して報告例が少なく、いまだ十分な量の研究がなされているとは言えません。本研究では、温和な条件で有機ゲルマニウムアニオン種を系中発生させ、アルキンのゲルミル化反応へ利用することに成功しました。本反応は、他の 14 族元素導入反応(スタニル化反応・シリル化反応)とは対照的な結果を得ており、元素の特性を利用した新たな 14 族元素導入法の開発の進展が期待されます。また、合成した有機ゲルマニウム化合物はこれまでに報告例がないものであり、14 族元素を含む新規物質群を創出に成功しました。
14 Group elements (ケイ元・ゲルマニウム・スズ) and containing compoundsは, general useの高いビルディングブロックとしての utilizing がLooking forward to されています.そのため 14 The introduction of family elements and the research on it more than half a century agoニオン・ラジカル kind of など様々なchemical kind を Use いた濜が开発されてきました. In that year, the 14 elements of the group "Ge" will be released.ゲルマニウムはケイ素とスズの间に Location する 14 The elements of the family are であり, ケイ元とスズの中の Reflection, をshows すことがLooking forward to, されます.実记に, ケイ素よりもfat-soluble が高い一方で, スズとはdifferent なりtoxicity が全くないことが知られています.しかしながらゲルミル化工濜は, スタニしながらゲルミル化工濜は, スタニしながらゲルミル化工濜してReport Example が小なく、いまだ十なquantityの研究がなされているとは语えません. This study was conducted under mild and mild conditions using organic ゲルマニウムアニオンを system.させ, アルキンのゲルミルへ Use することに to succeed しました. This は応は, other 14 family elements import しタニ化濜・シリル化濜) the result of the とは対光をget ており, the element's characteristics をutilization した新たな 14 The progress of the method of importing family elements is expected.また, synthetic organic ゲルマニウム compound はこれまでに report example がないものであり, 14 The creation of a new group of substances containing elements of the family has been successful.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
光励起を利用したスタニルジラジカル種の発生と新規スタニル化反応への展開
利用光激发生成甲锡烷基双自由基物种并开发新的甲锡烷基化反应
- DOI:
- 发表时间:2022
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:坂本 京花;内山 真伸
- 通讯作者:内山 真伸
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坂本 京花其他文献
有機スズアニオンの光励起を利用する新規スタニル化反応の開発
利用有机锡阴离子的光激发开发新的烷基化反应
- DOI:
- 发表时间:
2021 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
坂本 京花;永島 佑貴;内山 真伸 - 通讯作者:
内山 真伸
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相似海外基金
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三键硅二甲硅烷开创的新典型元素化学:高周期乙烯基阳离子的合成
- 批准号:
11F01338 - 财政年份:2011
- 资助金额:
$ 2.18万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows














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