Nanosized pin of amorphous MoGe film introduced by EB lithography and vortex configuration
Nanosized pin of amorphous MoGe film introduced by EB lithography and vortex configuration
通过 EB 光刻和涡流配置引入非晶 MoGe 薄膜的纳米级针
批准号：
26800192
负责人：
Ho Than Huy
金额：
$2.41万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2018-03-31
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人工ピン止めを導入した微小超伝導体の量子磁束: GL計算と量子磁束
人工钉扎微观超导体中的量子磁通量：GL 计算和量子磁通量
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DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[三吉大樹, 加藤勝, Vu The Dang, Ho Thanh Huy, 伊藤厚稀, 藤田憲生, 林正彦, 石田武和]
通讯作者：
石田武和
SQUID Microscopy for Probing Vortices in Small-Restricted Geometry
SQUID 显微镜用于探测小受限几何形状中的涡流
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DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[V. T. Dang, M. Toji, A. Ito, Y. Minomiya, S. Miyajima, H. T. Huy, H. Shishido, M. Kato, M. Maezawa, M. Hidaka, M. Hayashi, T. Ishida]
通讯作者：
T. Ishida
SQUID素子の製作とSQUID顕微鏡への応用
SQUID 元件的制造及其在 SQUID 显微镜中的应用
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DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[久保卓也, 今江理恵子, 河野望, 新井洋由, 宮嶋茂之，Ho Thanh Huy，岡本拓人，松本仁志，三吉大樹，林正彦，前澤正明，日高睦夫，石田武和]
通讯作者：
宮嶋茂之，Ho Thanh Huy，岡本拓人，松本仁志，三吉大樹，林正彦，前澤正明，日高睦夫，石田武和
非線形 Ginzburg- Landau (GL) 方程式によるMo80Ge20五芒星微小板の磁束分布計算と実験との比較
Mo80Ge20五角星片的磁通量分布计算与非线性Ginzburg-Landau（GL）方程与实验的比较
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DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[三吉大樹, 加藤勝, Ho Thanh Huy, 松本仁志, Vu The Dang, 藤田憲生, 林正彦, 石田武和]
通讯作者：
石田武和
Development of novel SQUID microscopy
新型 SQUID 显微镜的开发
新型 SQUID 显微镜的开发
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[V. T. Dang, M. Toji, A. Ito, Y. Ninomiya, S. Miyajima, H. T. Huy, H. Shishido, M. Kato, M. Hidaka, M. Hayashi]
通讯作者：
M. Hayashi
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