The control technology and influence of the structural properties of carrier transport for impurity-doped ZnO films
The control technology and influence of the structural properties of carrier transport for impurity-doped ZnO films
掺杂ZnO薄膜载流子输运结构特性控制技术及其影响
批准号：
26790050
负责人：
Nomoto Junichi
金额：
$2.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2016-03-31
中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
[講演奨励賞受賞記念講演]クリティカルレイヤーを用いたスパッタAl添加ZnO透明電導電膜のキャリア輸送制御(Ⅱ)
【讲座鼓励奖纪念讲座】利用临界层控制溅射Al掺杂ZnO透明导电薄膜中的载流子输运（II）
【讲座鼓励奖纪念讲座】利用临界层控制溅射Al掺杂ZnO透明导电薄膜中的载流子输运（II）
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[野本淳一, 牧野久雄, 山本哲也]
通讯作者：
山本哲也
Smart Hybrid of Two Different Deposition Technologies to Enhance Carrier Mobility of Highly Transparent Conductive Al-Doped ZnO Films with Well-Defined (0001) Orientation
两种不同沉积技术的智能混合可增强具有明确 (0001) 取向的高透明导电 Al 掺杂 ZnO 薄膜的载流子迁移率
两种不同沉积技术的智能混合可增强具有明确 (0001) 取向的高透明导电 Al 掺杂 ZnO 薄膜的载流子迁移率
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Junichi Nomoto, Hisao Makino, Tetsuya Yamamoto]
通讯作者：
Tetsuya Yamamoto
The characteristics of structural and electrical properties of polycrystalline Al-doped ZnO films by direct current magnetron sputtering using ZnO-Al2O3 targets
ZnO-Al2O3靶材直流磁控溅射多晶Al掺杂ZnO薄膜的结构和电学特性
ZnO-Al2O3靶材直流磁控溅射多晶Al掺杂ZnO薄膜的结构和电学特性
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Junichi Nomoto, Hisao Makino, Tetsuya Yamamoto]
通讯作者：
Tetsuya Yamamoto
クリティカルレイヤーを用いたスパッタAl添加ZnO透明電導電膜のキャリア輸送制御
利用临界层控制溅射Al掺杂ZnO透明导电薄膜中的载流子传输
利用临界层控制溅射Al掺杂ZnO透明导电薄膜中的载流子传输
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[野本淳一, 牧野久雄, 山本哲也]
通讯作者：
山本哲也
The Characteristics of Structural Properties of Polycrystalline Al-doped ZnO Films by Direct Current Magnetron Sputtering using Various Al2O3 Contents in Ceramic Targets
不同Al2O3含量陶瓷靶材直流磁控溅射多晶Al掺杂ZnO薄膜的结构性能特征
不同Al2O3含量陶瓷靶材直流磁控溅射多晶Al掺杂ZnO薄膜的结构性能特征
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Junichi Nomoto, Katsuhiko Inaba, Shintaro Kobayashi, Minoru Osada, Hisao Makino, Tetsuya Yamamoto]
通讯作者：
Tetsuya Yamamoto
共 6 条