Atomar maßgeschneiderte Grenzflächen in ultradünnen ferroelektrischen Heterostrukturen - Charakterisierung der elektrischen Nanostrukturen mit Elektronenholographie

点击翻译按钮获取中文摘要

Mittels der höchstauflösenden Elektronenholographie soll die elektrische Struktur von dünnen ferro-elektrischen Schichten bestimmt werden, die in nicht-ferroelektrische Schichten eingebettet sind. Die-se Schichten werden im Teilprojekt Dittmann hergestellt und im Teilprojekt Mayer/Jia mit analytischer und hochauflösender (S)TEM-Mikroskopie charakterisiert. Von besonderem Interesse für Herstellung und Leistungsfähigkeit von mikrostrukturierten Ferroelektrika ist die Charakterisierung von Domänen in Nanometer-Dimensionen, die sich in Abhängigkeit von Material, Schichtdicke, aufgewachsenen Elektroden und Störungen im Grenzbereich Elektrode-Ferroelektrikum beispielsweise durch Misfit-Versetzungen ausbilden. Besonderes Interesse unseres Teilprojekts gilt den Abschirm- und Kompen-sationseffekten an den Grenzflächen und dem entsprechenden Verlauf des elektrischen Feldes über ein Schichtsystem. Besondere Herausforderungen ergeben sich daraus, dass die Phase der hologra-phisch rekonstruierten Welle von einer Vielfalt von Eigenschaften des Objektes moduliert wird, so dass eine eindeutige Interpretation der ferroelektrischen Eigenschaften schwierig ist. Die Lösung die-ser Probleme ist das Hauptanliegen dieses Antrags.