Low temperature film formation technique for high gas barrier film using polysilazane coating and photo irradiation

利用聚硅氮烷涂层和光照射的低温成膜技术

基本信息

  • 批准号：
    26420711
  • 负责人：
    Ohishi Tomoji
  • 金额：
    $ 2.91万
  • 依托单位：
    Shibaura Institute of Technology
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2014
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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专利数量（0）
光照射とポリシラザン塗布膜による高ガスバリア膜低温形成技術の開発
利用光照射和聚硅氮烷涂膜的高气体阻隔性薄膜的低温形成技术的开发
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    山崎祥美;大石知司;生田目俊英
  • 通讯作者：
    生田目俊英
光照射による脂環式ポリイミド上への高ガスバリア膜低温形成技術
脂环族聚酰亚胺光照射低温高阻气薄膜形成技术
  • DOI：
  • 发表时间：
    2015
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    柳田和也;山本逸平;大石知司;生田目俊秀
  • 通讯作者：
    生田目俊秀
光照射とポリシラザン塗布法を用いた脂環式ポリイミドフィルム上への多層膜低温形成とその性質
光照射聚硅氮烷涂覆法在脂环族聚酰亚胺薄膜上低温形成多层膜及其性能
  • DOI：
  • 发表时间：
    2015
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    柳田和也;大石知司
  • 通讯作者：
    大石知司
光照射と塗布法を用いた脂環式ポリイミド上への高ガスバリア膜形成技術
光照射涂布法脂环族聚酰亚胺高阻气性成膜技术
  • DOI：
  • 发表时间：
    2014
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    柳田和也;大石知司
  • 通讯作者：
    大石知司
ポリシラザン塗布膜と光照射による脂環式ポリイミド上への多層膜形成とガスバリア特性
使用聚硅氮烷涂膜对脂环族聚酰亚胺进行多层成膜以及光照射和气体阻隔性能
  • DOI：
  • 发表时间：
    2016
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    柳田和也;大石知司
  • 通讯作者：
    大石知司
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