Arc Discharge Properties and Hydrogen Isotope Absorption in Co-deposited Films at Remote Fusion Plasmas
Arc Discharge Properties and Hydrogen Isotope Absorption in Co-deposited Films at Remote Fusion Plasmas
远程聚变等离子体共沉积薄膜的电弧放电特性和氢同位素吸收
批准号：
25289336
负责人：
UESUGI YOSHIHIKO
金额：
$11.15万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
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重水素 / 炭素混合プラズマへの窒素添加による炭素膜成長と重水素吸蔵の抑制
通过向氘/碳混合等离子体中添加氮气来抑制碳膜生长和氘吸收
通过向氘/碳混合等离子体中添加氮气来抑制碳膜生长和氘吸收
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
[加藤拓郎, 山崎嵩朗, 水上 愛, 上杉喜彦, 田中康規, 石島達夫]
通讯作者：
石島達夫
Effects of nitrogen injection on carbon film growth in low temperature hydrogen or deuterium plasmas with methane
氮气注入对含甲烷的低温氢或氘等离子体中碳膜生长的影响
氮气注入对含甲烷的低温氢或氘等离子体中碳膜生长的影响
DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
[A. Sasaki, K. Iida, M. Notani, Y. Uesugi, Y. Tanaka, T. Ishijima, S. Masuzaki]
通讯作者：
S. Masuzaki
エネルギー研究センター(米国)
能源研究中心（美国）
能源研究中心（美国）
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
Suppression of hydrogenated carbon film deposition and hydrogen isotope retention by nitrogen addition into cold remote H/D and CH4 mixture plasmas
通过向冷远程 H/D 和 CH4 混合等离子体中添加氮气来抑制氢化碳膜沉积和氢同位素保留
通过向冷远程 H/D 和 CH4 混合等离子体中添加氮气来抑制氢化碳膜沉积和氢同位素保留
DOI：
10.1016/j.jnucmat.2015.01.017
发表时间：
2015
期刊：
Journal of Nuclear Materials
影响因子：
3.1
作者：
[K. Iida, A. Sasaki, M. Notani, Y. Uesugi, Y. Tanaka, T. Ishijima]
通讯作者：
T. Ishijima
双方向性トリガーダイオードを用い生成した低気圧円筒形誘電体バリア放電動作特性解析
双向触发二极管低压圆柱形介质阻挡放电工作特性分析
双向触发二极管低压圆柱形介质阻挡放电工作特性分析
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
電気学会論文誌A
影响因子：
--
作者：
[平良優介, 上杉喜彦, 田中康規, 石島達夫]
通讯作者：
石島達夫
共 20 条