Control of quantum material properties by deterministic doping method

通过确定性掺杂方法控制量子材料特性

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ナノホールレジストマスクを用いた低エネルギーイオン注入による量子センシングのためのNVセンター配列の作製
使用纳米孔抗蚀剂掩模通过低能离子注入制造用于量子传感的 NV 中心阵列
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    東又格;岡田拓真;加賀美理沙;寺地徳之;小野田忍;春山盛善;山田圭介;稲葉優文;山野颯;P. Balasubramanian;L. P McGuinness;B. Naydenov;F. Jelezko;大島武;品田高宏;川原田洋;加田渉;花泉修;磯谷順一;谷井孝至
  • 通讯作者:
    谷井孝至
量子センシングのための浅い単一NVセンターの規則配列形成: イマージョンオイル中の水素核スピン計測
用于量子传感的浅单NV中心有序阵列的形成:浸油中氢核自旋的测量
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    東又格;岡田拓真;加賀美理沙;寺地徳之;小野田忍;春山盛善;     山田圭介;稲葉優文;山野颯;Priyadharshini Balasubramanian;Felix Stuener; Simon Schmitt;Liam P. McGuinness;Fedor Jelezko;大島武;品田高宏;川原田洋;加田渉;花泉修;磯谷順一;谷井孝至
  • 通讯作者:
    谷井孝至
Deterministic doping for quantum processing devices in silicon and diamond
硅和金刚石量子处理设备的确定性掺杂
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T;Shinada;E. Prati;T. Tanii;T. Teraji;S. Onoda;F. Jelezko;J. Isoya
  • 通讯作者:
    J. Isoya
単一原子制御への挑戦 -ERM決定論的(Deterministic)ドーピングのご紹介-
单原子控制的挑战-ERM确定性掺杂简介-
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    野間口達洋;坂口雄紀;澤村直哉;谷井孝至;品田 賢宏;朝日 透;品田 賢宏
  • 通讯作者:
    品田 賢宏
ナノホールレジストマスクを用いたNV センタ配列の作製
使用纳米孔抗蚀剂掩模制造 NV 中心阵列
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    小池悟大,東又格,寺地徳之,小野田忍,稲葉優文,P. Balasubramanian;B. Naydenov;F. Jelezko,大島武,品田高宏,川原田洋,磯谷順一,谷井孝至
  • 通讯作者:
    F. Jelezko,大島武,品田高宏,川原田洋,磯谷順一,谷井孝至
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Position‐Controlled Functionalization of Vacancies in Silicon by Single‐Ion Implanted Germanium Atoms
单离子注入锗原子对硅空位的位置控制功能化
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    19
  • 作者:
    Achilli Simona;Le Nguyen H.;Fratesi Guido;Manini Nicola;Onida Giovanni;Turchetti Marco;Ferrari Giorgio;Shinada Takahiro;Tanii Takashi;Prati Enrico
  • 通讯作者:
    Prati Enrico

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  • DOI:
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    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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