Control of quantum material properties by deterministic doping method
通过确定性掺杂方法控制量子材料特性
基本信息
- 批准号:25289109
- 负责人:
- 金额:$ 11.07万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2013
- 资助国家:日本
- 起止时间:2013-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ナノホールレジストマスクを用いた低エネルギーイオン注入による量子センシングのためのNVセンター配列の作製
使用纳米孔抗蚀剂掩模通过低能离子注入制造用于量子传感的 NV 中心阵列
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:東又格;岡田拓真;加賀美理沙;寺地徳之;小野田忍;春山盛善;山田圭介;稲葉優文;山野颯;P. Balasubramanian;L. P McGuinness;B. Naydenov;F. Jelezko;大島武;品田高宏;川原田洋;加田渉;花泉修;磯谷順一;谷井孝至
- 通讯作者:谷井孝至
量子センシングのための浅い単一NVセンターの規則配列形成: イマージョンオイル中の水素核スピン計測
用于量子传感的浅单NV中心有序阵列的形成:浸油中氢核自旋的测量
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:東又格;岡田拓真;加賀美理沙;寺地徳之;小野田忍;春山盛善; 山田圭介;稲葉優文;山野颯;Priyadharshini Balasubramanian;Felix Stuener; Simon Schmitt;Liam P. McGuinness;Fedor Jelezko;大島武;品田高宏;川原田洋;加田渉;花泉修;磯谷順一;谷井孝至
- 通讯作者:谷井孝至
Deterministic doping for quantum processing devices in silicon and diamond
硅和金刚石量子处理设备的确定性掺杂
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T;Shinada;E. Prati;T. Tanii;T. Teraji;S. Onoda;F. Jelezko;J. Isoya
- 通讯作者:J. Isoya
単一原子制御への挑戦 -ERM決定論的(Deterministic)ドーピングのご紹介-
单原子控制的挑战-ERM确定性掺杂简介-
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:野間口達洋;坂口雄紀;澤村直哉;谷井孝至;品田 賢宏;朝日 透;品田 賢宏
- 通讯作者:品田 賢宏
ナノホールレジストマスクを用いたNV センタ配列の作製
使用纳米孔抗蚀剂掩模制造 NV 中心阵列
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:小池悟大,東又格,寺地徳之,小野田忍,稲葉優文,P. Balasubramanian;B. Naydenov;F. Jelezko,大島武,品田高宏,川原田洋,磯谷順一,谷井孝至
- 通讯作者:F. Jelezko,大島武,品田高宏,川原田洋,磯谷順一,谷井孝至
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Position‐Controlled Functionalization of Vacancies in Silicon by Single‐Ion Implanted Germanium Atoms
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- 影响因子:19
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Prati Enrico
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Development of single dopant circuit by deterministic doping and application to stochastic processing
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- 批准号:
18H03766 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 11.07万 - 项目类别:
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$ 11.07万 - 项目类别:
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