INSULATION OF IMPLANT DEVICES BY PLASMA POLYMER COATINGS
通过等离子体聚合物涂层对植入装置进行绝缘
基本信息
- 批准号:3501646
- 负责人:
- 金额:$ 4.57万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:
- 财政年份:1989
- 资助国家:美国
- 起止时间:1989-09-01 至 1990-02-28
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
The long term objective of this proposed research is to provide a
commercial facility and reactors for the production of thin polymer
hermetic insulating materials specifically developed of the
physiological environment and for the prevention of electrolytic
corrosion of integrated circuit metallizations and lead wires.
The methods of polymer formation by plasma polymerization and vacuum
bake technology will be utilized to prepare surfaces, provide
intermediate layers of composite film encapsulation, and reduce the
number of encapsulant processing steps currently in use.
Specifically, this research will determine if plasma reactor conditions
optimized for adhesion can be combined will vacuum bake technology to
reduce the moisture content and improve the encapsulation of MOS
integrated circuit devices. In addition, the correlation of plasma
polymerization energy parameters and corrosion protection of circuit
metallizations and bond wires will be investigated.
Commercially, there exists a large potential market for totally
implanted intelligent devices which are scaled to the dimensions of the
anatomical analogues that they are to assist or replace. Size
constraints prohibits the application of conventional encapsulation
techniques by hermetic sealing in metal packages. A significant
technological innovation in packaging technology can be achieved by the
introduction of hermetic sealing by plasma polymer encapsulation.
这项拟议研究的长期目标是提供一个
用于生产稀薄聚合物的商业设施和反应堆
专门开发的密封绝缘材料
生理环境与电解液的预防
集成电路金属化和引线的腐蚀。
等离子体聚合和真空聚合形成聚合物的方法
将利用烘焙技术来准备表面,提供
中间层复合薄膜的封装,降低了
当前正在使用的密封剂处理步骤数。
具体地说,这项研究将确定等离子体反应堆的条件
经过优化的粘合可结合将真空烘焙技术
降低水分含量,提高MOS的包封性
集成电路器件。此外,血浆的相关性
聚合能参数与电路防腐
将对金属化和粘结线进行研究。
在商业上,完全有很大的潜在市场。
植入的智能设备,其尺寸可扩展到
他们要帮助或取代的解剖学类似物。大小
约束禁止应用常规封装
金属包装中的密封技术。一个重要的
包装技术的技术创新可以通过
介绍了等离子体聚合物封装的密封技术。
项目成果
期刊论文数量(1)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Functional hermetic encapsulation of integrated circuits.
集成电路的功能性密封封装。
- DOI:
- 发表时间:1991
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Nichols,MF;Hahn,AW
- 通讯作者:Hahn,AW
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通过等离子体聚合物涂层对植入装置进行绝缘
- 批准号:
3508731 - 财政年份:1989
- 资助金额:
$ 4.57万 - 项目类别:
INSULATION OF IMPLANT DEVICES BY PLASMA POLYMER COATINGS
通过等离子体聚合物涂层对植入装置进行绝缘
- 批准号:
3508732 - 财政年份:1989
- 资助金额:
$ 4.57万 - 项目类别:














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