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Pushing the limit of Electron beam lithography for plasmonics research
突破电子束光刻技术在等离激元研究中的极限
基本信息
- 批准号：481041-2015
- 负责人：
- 金额：$ 0.33万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：University Undergraduate Student Research Awards
- 财政年份：2015
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：2015-01-01 至 2016-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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