本项目拟采用磁控溅射和离子束溅射的方法在多孔三氧化二铝衬底上制备具有量子反点阵列结构的磁性薄膜。通过结构测量和形貌观测，系统地研究3d过渡金属Fe及其合金的磁性量子反点阵列膜的制备工艺与反点阵列形态的变化规律, 重点围绕磁矩分布这一问题，利用穆斯堡尔谱和微磁学模拟相结合的方法来研究尺寸效应、温度、外加磁场等因素对磁矩分布的影响；同时，利用宏观磁性测量，进一步讨论整个量子反点阵列膜的磁化反转机制，最终得到尺寸效应、温度、磁化状态的变化对薄膜磁矩分布和磁化反转机制影响的普遍规律。从而为磁性量子反点阵列薄膜在高密度磁记录介质方面的应用提供可靠的实验依据。