磁力显微镜对纳米尺度磁畴结构的定量研究

批准号:
51071088
项目类别:
面上项目
资助金额:
38.0 万元
负责人:
韦丹
依托单位:
学科分类:
E0107.金属功能材料
结题年份:
2013
批准年份:
2010
项目状态:
已结题
项目参与者:
曹江伟、王颖、李洪佳、王怡、李旭、吕华
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中文摘要
磁力显微镜(Magnetic Force Microscope, MFM)因测量不破坏样品、样品无需特别制备、以及纳米尺度的分辨率(10-50nm)等优势,而广泛应用于各种磁性材料中的磁畴及微磁结构的研究,尤其成为磁记录工业中研究磁介质和磁头的磁畴结构或磁场分布的有力工具。但是,标准的MFM测量技术仅仅定性地给出磁性样品表面散磁场的梯度分布,而如何定量地分析MFM图像、得到MFM图像背后的样品磁矩分布信息,是近年来MFM研究领域迫切需要解决的问题,也是当前研究的热点。本项目拟研究的内容主要包括:(1)用微磁学方法研究MFM针尖的几何形状和材料特性对针尖磁畴和磁场的影响;(2)根据针尖的磁畴结构,构筑比较精确的MFM成像理论,其中的核心算法是微磁学方法和格林函数法;(3)对纳米尺度磁畴进行具体的测量和分析,例如研究高密度计算机硬盘写磁头中的磁畴分布,并分析相应的磁头场对写入过程的影响。
英文摘要
本项目在磁力显微镜(Magnetic Force Microscope, MFM)的磁性针尖材料设计、图像定量分析、样品磁矩分析等MFM研究领域迫切需要解决的问题方面取得了一系列有价值的进展。具体的成果主要包括:(1)用微磁学方法理清了多晶硬磁性的CoCr类针尖、非晶软磁性的FeB类针尖的材料特性和几何形状对针尖磁畴、漏出场和分辨率的影响;(2)在MFM成像理论方面,根据针尖的磁畴结构,构筑了比较精确的针尖的模型;对纳米尺度磁畴进行了测量,并利用格林函数法从MFM图像中分析出材料中的磁矩分布。(3)分析了软磁薄膜样品中的条形畴与薄膜中应力之间的关系.
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
DOI:10.1109/tmag.2013.2243901
发表时间:2013-07
期刊:IEEE Transactions on Magnetics
影响因子:2.1
作者:Lei Xu;Yi Wang;D. Wei;Zhongshui Ma
通讯作者:Lei Xu;Yi Wang;D. Wei;Zhongshui Ma
DOI:10.1063/1.3545818
发表时间:2011-03
期刊:Journal of Applied Physics
影响因子:3.2
作者:Li, Hongjia;Wei, Dan
通讯作者:Wei, Dan
Studies on Domain Structure of FeCoZr Films From MFM Image by Calculating the Surface Stray Field
通过计算表面杂散场从 MFM 图像研究 FeCoZr 薄膜的畴结构
DOI:--
发表时间:2013
期刊:IEEE Transactions on Magnetics
影响因子:2.1
作者:Wu, Dongping;Bai, Jianmin;Wei, Fulin;Wei, Dan
通讯作者:Wei, Dan
Micromagnetic Studies of Co/Pt Multilayers With Perpendicular Anisotropy
具有垂直各向异性的 Co/Pt 多层膜的微磁研究
DOI:10.1109/tmag.2012.2196989
发表时间:2012-10
期刊:IEEE Transactions on Magnetics
影响因子:2.1
作者:Wei, Dan;Wang, Yi;Han, Xiu-Feng;Gao, Kai-Zhong
通讯作者:Gao, Kai-Zhong
DOI:10.1143/apex.5.093003
发表时间:2012-08
期刊:Applied Physics Express
影响因子:2.3
作者:F. Luo;F. Zheng;Y. Lou;Dongping Wu;Jiangwei Cao;F. Wei
通讯作者:F. Luo;F. Zheng;Y. Lou;Dongping Wu;Jiangwei Cao;F. Wei
任意温度下的微磁学及材料磁性与热性质的关联研究
- 批准号:51771099
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:62.0万元
- 批准年份:2017
- 负责人:韦丹
- 依托单位:
TMR多层膜及器件的微磁学研究及其在存储、传感领域的应用
- 批准号:51371101
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:80.0万元
- 批准年份:2013
- 负责人:韦丹
- 依托单位:
离子辐照制备超高密度图形化记录介质的研究
- 批准号:51171086
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:55.0万元
- 批准年份:2011
- 负责人:韦丹
- 依托单位:
国内基金
海外基金
