材料激光刻蚀低二次电子产额机理及关键技术研究

批准号:
11975226
项目类别:
面上项目
资助金额:
65.0 万元
负责人:
王勇
依托单位:
学科分类:
加速器物理
结题年份:
2023
批准年份:
2019
项目状态:
已结题
项目参与者:
王勇
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中文摘要
加速器储存环中的粒子轰击真空室表面产生二次电子,大量的二次电子聚集形成电子云,高密度的电子云造成储存环动态气压上升、束流损失、寿命降低,制约高频功率,其危害已成为新一代粒子加速器建造瓶颈,制约着粒子加速器向高能、高亮度和高稳定性的方向发展。研究表明高功率激光照射材料表面可以降低材料二次电子产额,制备方法简单、可在大气中进行、成本低廉、易行、表层性能稳定,没有寿命问题。开展材料激光刻蚀低二次电子产额机理和关键技术的科学课题研究、分析测试,找出激光刻蚀材料二次电子产额SEY<1.0的机理及关键工艺技术。开展激光刻蚀材料表面沉积NEG吸气合金材料,使处理材料具有低二次电子产额同时具有优良的真空抽气性能研究具有创新的科学研究,彻底解决未来加速器储存环真空系统建造瓶颈问题。项目研究成果将为新一代粒子加速器的储存环真空系统的建造提供理论依据、实施方案和技术支持。
英文摘要
Scattered electrons and photoelectrons in storage ring strike on the wall of vacuum chamber and produce secondary electrons, which accumulate as electron cloud. Intense electron cloud will cause increase of dynamic pressure, beam loss, decrease of beam life, suppression of high-frequency power, decrease of microwave device life. Electron cloud has become a limiting factor for the new generation particle accelerator with high energy, high luminosity and high stability. Studies show that surface of vacuum chambers have low secondary electron yield (SEY) after exposure to high power laser (laser ablation), which can be accomplished in air with low cost, simple apparatus, good surface stability and infinite operation life. The mechanism and key technology of laser ablation will be carried out to prepare surface with SEY lower than 1.0. The laser etched surface will show low SEY as well as good pumping stability after being deposited with NEG film. This study will eliminate the limiting factor and supply theoretical foundation, implementation scheme and technique support for vacuum system construction of new generation particle accelerator.
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
DOI:10.13922/j.cnki.cjvst.202204004
发表时间:2022
期刊:真空科学与技术学报
影响因子:--
作者:卞抱元;洪远志;王思慧;范乐;朱邦乐;张文丽;王勇
通讯作者:王勇
DOI:10.1116/6.0000952
发表时间:2021-03
期刊:Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
影响因子:--
作者:Yigang Wang;Wenli Zhang;Sihui Wang;Wei Wei-Wei;Jian Fang;B. Zhu;Yong Wang
通讯作者:Yigang Wang;Wenli Zhang;Sihui Wang;Wei Wei-Wei;Jian Fang;B. Zhu;Yong Wang
Study on the anisotropy of the secondary electron yield and resistance of the laser-etched copper
激光刻蚀铜二次电子产额及电阻各向异性研究
DOI:10.1016/j.apsusc.2021.150419
发表时间:2021-10
期刊:APPLIED SURFACE SCIENCE
影响因子:6.7
作者:Zhang Wenli;Wang Yigang;Wang Sihui;Fan Le;Wei Wei;Fang Jianwei;Li Weimin;Wang Yong
通讯作者:Wang Yong
DOI:10.1016/j.nima.2022.167450
发表时间:2022
期刊:Nuclear Instruments and Methods in Physics Research
影响因子:--
作者:Baoyuan Bian;Yuanzhi Hong;Sihui Wang;Le Fan;Bangle Zhu;Jianwei Fang;Wenli Zhang;Yong Wang
通讯作者:Yong Wang
Activation and pumping characteristics of Ti–Zr–V films deposited on narrow tubes
窄管上Ti-Zr-V薄膜的活化和泵浦特性
DOI:10.1007/s41365-021-00880-4
发表时间:2021-05
期刊:Nuclear Science and Techniques
影响因子:2.8
作者:Bangle Zhu;Xiaoqin Ge;Sihui Wang;Wei Wei;Yigang Wang;Gongfa Liu;Yong Wang
通讯作者:Yong Wang
粒子加速器常用材料二次电子发射机理和实验研究
- 批准号:11475166
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:98.0万元
- 批准年份:2014
- 负责人:王勇
- 依托单位:
陶瓷真空室表面处理机理及关键技术研究
- 批准号:11075157
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:38.0万元
- 批准年份:2010
- 负责人:王勇
- 依托单位:
加速器管道真空室表面沉积NEG吸气膜机理与关键技术研究
- 批准号:10675119
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:34.0万元
- 批准年份:2006
- 负责人:王勇
- 依托单位:
极高真空材料处理及性能的分析
- 批准号:10245002
- 项目类别:专项基金项目
- 资助金额:10.0万元
- 批准年份:2002
- 负责人:王勇
- 依托单位:
国内基金
海外基金
