随着陶瓷材料表面处理工艺和技术问题的解决，陶瓷材料已成为新一代粒子加速器储存环真空室制作的主要材料。本项目设计、建造一台陶瓷管道溅射镀膜系统，开展了陶瓷管道和异形陶瓷管道内表面直流溅射镀膜和射频溅射镀膜实验研究。在多丝靶溅射阴极优化设计计算中，用CST PARTICLE SUDIO软件模拟分析实验装置在镀膜过程中电场的分布情况，计算结果表明多丝阴极设计可有效提高溅射镀膜效率，膜的品质和均匀度更高，磁控溅射镀膜比直流溅射镀膜效率高。实验中在跑道型陶瓷管道内表面获得了均匀的高品质的TiN、Ti金属薄膜，并利用X射线光电子能谱（XPS）对所镀薄膜材料组成成份进行定量测量及分析，使用扫描电子显微镜（SEM）观察、测量了TiN金属薄膜的表面形貌和截面尺寸，利用测量结果计算出溅射镀膜效率。比较直流溅射镀膜和射频溅射镀膜结果得出在非导体镀膜实验中射频溅射镀膜效率远高于直流溅射镀膜。通过系列镀膜实验最终确定了完整陶瓷管道内表面溅射镀膜工艺参数和工艺规范。