高性能光致聚合物全息记录材料研制及角度复用激光全息记录技术研究
批准号:
11176009
项目类别:
联合基金项目
资助金额:
42.0 万元
负责人:
孙秀冬
依托单位:
学科分类:
NSFC-中物院联合基金
结题年份:
2015
批准年份:
2011
项目状态:
已结题
项目参与者:
王健、骆素华、张建隆、孟庆鑫、吴迪、元海明
中文摘要
高性能全息记录介质的制备与全息记录技术的研究在大容量信息存储、快速相关识别等领域具有巨大的应用价值。本项目拟在凝胶型与玻璃态聚合物体系内通过优化成分配比、改进合成工艺制备动态范围大、灵敏度高、体积收缩小的高性能体块状光致聚合物全息记录材料,并研究其全息存储综合性能。设计基于光致聚合物材料的角度复用技术,优化光路配置,实现多幅图像的高质量全息记录,得到实现高质量全息再现对应的材料参数与实验条件。以全息图的高速记录为目标,研究短脉冲激光记录对全息图对比度、信噪比等全息特性的影响,探讨在光致聚合物内记录多幅高质量全息图的高速瞬态粒子场应用条件。本研究将进一步扩展全息记录材料的研究领域,为大容量全息复用技术在聚合物存储介质中的应用提供实验基础,具有重要的科学意义和应用价值。
英文摘要
针对高重频超短脉冲激光记录,制备出具有较快响应速度的光致聚合物材料,并通过掺杂、合成改性等多种技术手段提高材料的全息存储性能;基于所研制的大尺寸、高衍射效率、高感光灵敏度以及角度选择性好的光致聚合物全息存储材料,利用二波耦合效应测试样品的光学特性,并在理论上分析其光反应动力学过程;探究超短脉冲记录条件下角度复用多幅全息图记录技术的可行性,利用自行制备的具有优良全息特性的聚合物材料实现模拟粒子场信息的角度复用记录,理论上每两幅图像曝光时间间隔在微秒量级。
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Enhancement of photochemical response in bulk poly(methyl methacrylate) photopolymer dispersed organometallic compound
增强本体聚(甲基丙烯酸甲酯)光聚合物分散有机金属化合物的光化学响应
DOI:
10.1016/j.optcom.2012.08.002
发表时间:
2012-11
期刊:
Optics Communications
影响因子:
2.4
作者:
[Liu, Hongpeng1, Yu, Dan2, Yang, Li1, Wang, Weibo1, Zhang, Lianshun1, Wang, Hui3, Sun, Xiudong4]
通讯作者:
Sun, Xiudong4
Optoelectronic Fast Response Properties of PQ/PMMA Polymer
PQ/PMMA聚合物的光电快速响应特性
DOI:
10.1016/j.matpr.2016.01.101
发表时间:
2016
期刊:
Materials Today: Proceedings
影响因子:
--
作者:
[Xiudong Sun, Fuwei Chang, Kuo Gai]
通讯作者:
Kuo Gai
Holographic grating formation in SiO2 nanoparticle-dispersed PQ-PMMA photopolymer
SiO2 纳米粒子分散的 PQ-PMMA 光聚合物中全息光栅的形成
DOI:
10.1016/j.optlastec.2011.11.015
发表时间:
2012-06
期刊:
Optics and Laser Technology
影响因子:
5
作者:
[Dan Yu, Jian Wang, Yongyuan Jiang, Xiudong Sun]
通讯作者:
Xiudong Sun
DOI:
10.1364/ol.37.002241
发表时间:
2012-06
期刊:
Optics letters
影响因子:
3.6
作者:
[Heng Wang;Jian Wang;Hongpeng Liu;Dan Yu;Xiu-Dong Sun;Jingwen Zhang]
通讯作者:
Heng Wang;Jian Wang;Hongpeng Liu;Dan Yu;Xiu-Dong Sun;Jingwen Zhang
基于纳米三角板自组装体系的可调控多势阱表面等离激元光镊及其应用研究
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批准号:91950117
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项目类别:重大研究计划
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资助金额:80.0万元
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批准年份:2019
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负责人:孙秀冬
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依托单位:
电、磁等离激元及光学共振模式的杂化耦合特性与模式优化
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批准号:11374074
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项目类别:面上项目
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资助金额:80.0万元
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批准年份:2013
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负责人:孙秀冬
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依托单位:
特殊Non-Markovian系统中多能级原子的动力学特性研究
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批准号:10674037
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项目类别:面上项目
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资助金额:24.0万元
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批准年份:2006
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负责人:孙秀冬
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依托单位:
基于自组装单分子膜技术的金属团簇形成与成膜控制研究
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批准号:90201003
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项目类别:重大研究计划
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资助金额:24.0万元
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批准年份:2002
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负责人:孙秀冬
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依托单位:
基于新型聚乙烯咔唑光折变聚合物的相位共轭特性研究
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批准号:69878006
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项目类别:面上项目
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资助金额:14.0万元
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批准年份:1998
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负责人:孙秀冬
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依托单位:
国内基金
海外基金