快速软恢复SiGeC/Si异质结功率二极管的研究

批准号:
50477012
项目类别:
面上项目
资助金额:
24.0 万元
负责人:
高勇
依托单位:
学科分类:
E0706.电力电子学
结题年份:
2007
批准年份:
2004
项目状态:
已结题
项目参与者:
余明斌、杨媛、陈曦、马丽、安涛、张如亮
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中文摘要
基于SiGeC/Si异质结构理论分析,建立SiGeC/Si功率二极管器件模型和工艺模型,并运用于器件模拟软件MEDICI和工艺模拟软件SUPREM-4中,为新器件和工艺设计提供可靠的模拟仿真手段;针对电力电子技术对功率二极管快速软恢复特性愈来愈高的要求,提出SiGeC/Si快速软恢复功率二极管器件的新结构,通过模拟分析SiGeC/Si异质结材料结构对器件各电参数的影响因素,尤其是通过Ge含量调节和C含量的补偿,寻找综合参数优化的器件结构与工艺参数,实现优异的存贮电荷Q、通态电压Vf和反向漏电流Ir 折衷,得到优良的快速软恢复特性;通过工艺模拟手段探索合适的掺碳工艺和器件工艺条件,制定出简单易行的SiGeC/Si异质结功率二极管工艺流程和实施方案。该研究将对利用SiGeC/Si异质结构制作高性能功率器件和功率集成电路开辟新的途径。
英文摘要
期刊论文列表
专著列表
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专利列表
DOI:--
发表时间:--
期刊:微电子学,2007, vol.37,No.5, p619-623
影响因子:--
作者:高勇;黄媛媛;刘静
通讯作者:刘静
DOI:--
发表时间:--
期刊:固体电子学研究与进展,已录用
影响因子:--
作者:马丽;高勇;刘静;余明斌
通讯作者:余明斌
DOI:--
发表时间:--
期刊:固体电子学研究与进展,已录用
影响因子:--
作者:刘静;高勇;王彩琳;马丽
通讯作者:马丽
DOI:--
发表时间:--
期刊:微电子学,2005, vol.35,No.5, p527-530
影响因子:--
作者:高勇;刘静;马丽
通讯作者:马丽
A Novel Ideal Ohmic Contact Si
一种新型理想欧姆接触硅
DOI:--
发表时间:--
期刊:
影响因子:--
作者:Liu Jing, Gao Yong, Yang Yuan,
通讯作者:Liu Jing, Gao Yong, Yang Yuan,
半超结硅锗功率开关二极管的研究
- 批准号:51177133
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:60.0万元
- 批准年份:2011
- 负责人:高勇
- 依托单位:
阳极注入效率可控的(IEC)GCT新结构及其关键技术研究
- 批准号:50877066
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:35.0万元
- 批准年份:2008
- 负责人:高勇
- 依托单位:
国内基金
海外基金
