铁电-铁磁多层复合薄膜中界面应力对结构和性能作用规律的研究
批准号:
50772019
项目类别:
面上项目
资助金额:
32.0 万元
负责人:
朱俊
依托单位:
学科分类:
E0205.无机非金属基复合材料
结题年份:
2010
批准年份:
2007
项目状态:
已结题
项目参与者:
张鹰、陶伯万、黄文、罗文博、周立勋、赵丹、贝力
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中文摘要
在多元氧化物铁电、铁磁薄膜的异质外延生长中,因晶格失配而引起的界面应力对其微结构和性能有着重要的影响。我们制备了多种氧化物功能复合薄膜及超晶格,并系统研究了在不同失配度下薄膜的生长模式的演变行为及磁电性能变化规律。本项目拟采用激光分子束外延在不同的单晶基片上制备BaTiO3/CoFe2O4、PZT/NiFe2O4等多种铁电/磁电异质复合薄膜,利用反射式高能电子衍射装置对薄膜表面生长状态进行原位实时测试,通过精确控制膜厚和改变复合结构(包括:调节铁电或铁磁单层的绝对、相对厚度,改变复合层数等),实现应力有效控制,采用高分辨率X射线衍射、X光电子能谱、扫描电子显微镜、透视电子显微镜、以及铁电、介电和铁磁测试仪等表征手段,进一步研究界面应力对复合薄膜的微观结构和宏观性质的影响。通过比较不同复合体系的性能变化规律,探索弹性应变场对铁电和铁磁相变行为和性能变化,以及铁电/铁磁耦合效应的作用。
英文摘要
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专利列表
Growth of a-axis oriented yttria-stablized-zirconia films on sapphire substrate by pulsed laser deposition
脉冲激光沉积在蓝宝石衬底上生长a轴取向氧化钇稳定氧化锆薄膜
DOI:--
发表时间:--
期刊:真空科学与技术学报
影响因子:--
作者:Jing, Jing;Zhu, Jun;Zhang, Ying;Li, Yanrong;Luo, Wenbo
通讯作者:Luo, Wenbo
DOI:10.1063/1.3081971
发表时间:2009-02
期刊:Journal of Applied Physics
影响因子:3.2
作者:Chuanjian Wu;Yuanxun Li;J. Zhu;Xingchong Liu;W. L. Zhang
通讯作者:Chuanjian Wu;Yuanxun Li;J. Zhu;Xingchong Liu;W. L. Zhang
Epitaxial growth of SrTiO3 films on GaN/Al2O3(0001) substrates
GaN/Al2O3(0001)衬底上外延生长SrTiO3薄膜
DOI:--
发表时间:--
期刊:压电与声光
影响因子:--
作者:Wang, Xiao-Ping;Chen, Hong;Li, Yan-Rong;Zhang, Ying;Luo, Wen-Bo;Zhu, Jun
通讯作者:Zhu, Jun
Enhanced ferroelectric properties of Hf-doped bismuth titanate thin films on STO (111) substrates
STO(111)衬底上掺铪钛酸铋薄膜的铁电性能增强
DOI:10.1063/1.2996080
发表时间:2008-10
期刊:Journal of Applied Physics
影响因子:3.2
作者:Zhu, J.;Zhang, Y.;Wang, X.P.;Li, Y.R.;Luo, W.B.
通讯作者:Luo, W.B.
Study on the growth and interfacial strain of CoFe2O4/BaTiO3 bilayer films
CoFe2O4/BaTiO3双层薄膜的生长和界面应变研究
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2009.04.003
发表时间:2009-06
期刊:Journal of Crystal Growth
影响因子:1.8
作者:Li, Y.R.;Zhou, L.X.;Huang, W.;Zhu, J.;Li, Y.Q.
通讯作者:Li, Y.Q.
基于LiNbO3铁电极化调制的GaN基增强型HEMT的制备与性能研究
- 批准号:51372030
- 项目类别:面上项目
- 资助金额:80.0万元
- 批准年份:2013
- 负责人:朱俊
- 依托单位:
国内基金
海外基金















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