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防护性硅烷膜的电沉积制备
结题报告
批准号:
50871101
项目类别:
面上项目
资助金额:
31.0 万元
负责人:
胡吉明
依托单位:
学科分类:
E0103.金属材料使役行为与表面工程
结题年份:
2011
批准年份:
2008
项目状态:
已结题
项目参与者:
张金涛、邹建凯、刘倞、毛建拥、丁尚志、孙晓静
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中文摘要
环保型硅烷膜是当今金属防护预处理领域的研究热点,意在取代传统的磷化与铬酸盐转化处理工艺。根据"碱催化"促进硅烷膜形成的原理,采用阴极电沉积技术制备硅烷膜已倍受关注。但是,简单的电沉积工艺却很难制备得到防护性能优异的硅烷膜。在系统分析存在的问题及参考项目组前期工作的基础上,本项目提出建立适合防护性硅烷膜电沉积的全新制备体系:针对沉积液中溶解氧还原生成OH-离子能力有限的缺点,提出加入其它"碱化"能力更强的物种;为避免阴极沉积时H2O发生分解生成有害H2气泡,提出加入合适的析氢抑制剂。通过对两类物种的筛选与沉积条件的优化,电沉积制备得到耐蚀性能优异的防护性硅烷膜;通过考察硅烷膜生长动力学、膜结构、金属/硅烷膜界面性质,及膜显微力学性能等,进一步明晰电沉积硅烷膜相对于传统浸涂工艺具有更优异性能的内在机制。力争通过上述问题的研究,为电沉积制备防护性硅烷膜这一全新领域的研究与开发提供可借鉴的思路。
英文摘要
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IrO2-SiO2 binary oxide films: Geometric or kinetic interpretation of the improved electrocatalytic activity for the oxygen evolution reaction
IrO2-SiO2 二元氧化物薄膜:析氧反应电催化活性改进的几何或动力学解释
DOI:10.1016/j.ijhydene.2011.01.131
发表时间:2011-05-01
期刊:INTERNATIONAL JOURNAL OF HYDROGEN ENERGY
影响因子:7.2
作者:Zhang, Jia-Jia;Hu, Ji-Ming;Cao, Chu-Nan
通讯作者:Cao, Chu-Nan
DOI:--
发表时间:--
期刊:表面技术
影响因子:--
作者:洪誉鹏;刘倞;胡吉明;唐科忠
通讯作者:唐科忠
DOI:--
发表时间:--
期刊:腐蚀科学与防护技术
影响因子:--
作者:张鉴清;刘倞;曹楚南;胡吉明
通讯作者:胡吉明
Electrodeposition of cerium (III)-modified bis-[triethoxysilypropyl]tetra-sulphide films on AA2024-T3 (aluminum alloy) for corrosion protection
在 AA2024-T3(铝合金)上电沉积铈 (III) 改性双[三乙氧基甲硅烷基丙基]四硫化物薄膜以实现腐蚀防护
DOI:10.1016/j.surfcoat.2010.05.027
发表时间:2010-08
期刊:Surface & Coatings Technology
影响因子:5.4
作者:Liu, L;Zhang, JQ;Wu, LK;Cao, CN;Hu,JM;Li, J
通讯作者:Li, J
DOI:10.1039/c1cc00007a
发表时间:2011-06
期刊:Chemical communications
影响因子:4.9
作者:Liang Liu;Reut Toledano;T. Danieli;Jian-qing Zhang;Ji-Ming Hu;D. Mandler
通讯作者:Liang Liu;Reut Toledano;T. Danieli;Jian-qing Zhang;Ji-Ming Hu;D. Mandler
半导体 LDH 薄膜在金属防护中的应用基础研 究
  • 批准号:
    Z24E010002
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    0.0万元
  • 批准年份:
    2024
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
石墨烯/“纳米存储器”复合物的电沉积构筑及其在防护涂层中的应用基础研究
  • 批准号:
    --
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    58万元
  • 批准年份:
    2020
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
碳钢表面硅烷化关键技术与相关基础研究
  • 批准号:
    51671174
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    60.0万元
  • 批准年份:
    2016
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
利用电沉积二氧化硅薄膜构建金属表面新型、高效、绿色涂装防护体系
  • 批准号:
    51371159
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    80.0万元
  • 批准年份:
    2013
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
利用SECM技术实现硅烷sol-gel组分的微区可控沉积
  • 批准号:
    21173187
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    61.0万元
  • 批准年份:
    2011
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
以可水解的硅烷预聚体为缓蚀剂的自修复涂层与机制研究
  • 批准号:
    50571090
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    25.0万元
  • 批准年份:
    2005
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
有机物水溶液中DSA的耐用性与失效机制
  • 批准号:
    20473072
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    23.0万元
  • 批准年份:
    2004
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
侵蚀粒子在有机涂层中传输行为与涂层金属失效机制研究
  • 批准号:
    50201015
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
  • 资助金额:
    8.0万元
  • 批准年份:
    2002
  • 负责人:
    胡吉明
  • 依托单位:
国内基金
海外基金