课题基金 / 基金详情

利用SECM技术实现硅烷sol-gel组分的微区可控沉积

批准号:
21173187
项目类别:
面上项目
资助金额:
61.0 万元
负责人:
胡吉明
依托单位:
学科分类:
电化学
结题年份:
2015
批准年份:
2011
项目状态:
已结题
项目参与者:
DanielMandler、刘清、伍廉奎、蒋梅燕、金小寒、江亮亮、张佳佳

项目摘要

结项摘要

项目成果

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中文摘要
作为一种代表性的sol-gel材料,官能团可选的硅氧烷薄膜,已广泛应用于材料防护、电分析及催化等领域。最近兴起的"电沉积"技术,是通过在导电基体上施加阴极极化电位,使电极表面附近溶液发生碱化,进而实现硅烷在电极表面的缩聚成膜。为克服该技术仅适用于导电基体的问题,本项目首次提出,采用扫描电化学显微镜(SECM)的反馈或直接模式,分别通过在微探针或基体上施加阴极电位,使探针与基体之间的微区溶液发生碱化,进而调控微区内硅烷溶液的絮凝和在基体上的沉积。本项目将研究探针、溶液和基体三大参数对硅烷微区沉积的影响规律,进而实现在不同导电类型的固相表面上硅烷组分的微区可控沉积;根据所选硅烷类型及其复合体系的不同性质,探索性研究硅烷微区可控沉积技术在若干领域可能的应用。本项目关于硅烷微区可控沉积的研究,一方面为传统的硅烷电沉积提供一种全新的研究与制备方法;另一方面,拓展了利用SECM进行微区沉积的材料体系。
英文摘要
微区加工(图案化)在电子电路、先进膜材料及蛋白微区传感等诸多领域有重要的应用。本项目提出基于sol-gel电化学的基本原理,研究在导电或不导电(包括半导体)的基体表面微区沉积SiO2类的sol-gel组分,实现基体表面微区图案化。主要采用两种手段来实现上述研究目标:一为扫描电化学显微镜(SECM),二为光控沉积。前者利用Faraday电流的微区分布,采用直接模式或反馈模式可分别实现在导电的或不导电的基体上sol-gel组分的微区电沉积;后者可通过控制光斑大小调控sol-gel组分在p型半导体上的微区可控电沉积。. 研究并实现了SECM直接模式或反馈模式下,无机SiO2、无机/有机硅烷、金属/SiO2等sol-gel薄膜在导电(如ITO玻璃、玻碳电极)或不导电(如玻璃)基体表面的微区可控沉积。研究并得到了沉积时间、基体电位(直接模式下)、探针电位(反馈模式下)、探针-基体距离等影响微区sol-gel沉积层的轮廓大小与微观形貌的调控规律。提出采用光致调控sol-gel组分在p型半导体表面电沉积的方法,并研究得到了相关参数的调控规律,在此基础上,采用微米尺度的激光光斑在p型半导体表面微区可控沉积sol-gel薄膜。进而,尝试性开展在SECM下结合光照激发在p型半导体表面可控微区沉积sol-gel薄膜。
期刊论文列表
专著列表
科研奖励列表
会议论文列表
专利列表
Construction of a novel painting system using electrodeposited SiO2 film as the pretreatment layer
以电沉积SiO2薄膜为预处理层的新型涂装体系的构建
DOI: 10.1016/j.corsci.2012.10.033
发表时间: 2013-03
期刊: Corrosion Science
影响因子: 8.3
作者: [Zhou, Jin-He, Hu, Ji-Ming, Zhang, Jian-Qing, Cao, Chu-Nan]
通讯作者: Cao, Chu-Nan
DOI: 10.1039/c3ta13459h
发表时间: 2013
期刊: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY A
影响因子: 11.9
作者: [Wu Lian-Kui, Hu Ji-Ming, Zhang Jian-Qing]
通讯作者: Zhang Jian-Qing
Photo-assisted electrodeposition of sol–gel films on p-type semiconductors
p型半导体上溶胶凝胶薄膜的光辅助电沉积
DOI: 10.1016/j.elecom.2015.10.002
发表时间: 2015-12
期刊: Electrochemistry Communications
影响因子: 5.4
作者: [Zhou, Jin-He, Jiang, Liang-Liang, Wu, Lian-Kui, Hu, Ji-Ming]
通讯作者: Hu, Ji-Ming
DOI: 10.1016/j.corsci.2012.03.042
发表时间: 2012-07
期刊: Corrosion Science
影响因子: 8.3
作者: [Wu, LK, Hu, JM, Zhang, JQ, Wu, LK]
通讯作者: Wu, LK
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    半导体 LDH 薄膜在金属防护中的应用基础研 究
    • 批准号:
      Z24E010002
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      0.0万元
    • 批准年份:
      2024
    • 负责人:
      胡吉明
    • 依托单位:
    石墨烯/“纳米存储器”复合物的电沉积构筑及其在防护涂层中的应用基础研究
    • 批准号:
      52071283
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      58.0万元
    • 批准年份:
      2020
    • 负责人:
      胡吉明
    • 依托单位:
    碳钢表面硅烷化关键技术与相关基础研究
    • 批准号:
      51671174
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      60.0万元
    • 批准年份:
      2016
    • 负责人:
      胡吉明
    • 依托单位:
    利用电沉积二氧化硅薄膜构建金属表面新型、高效、绿色涂装防护体系
    • 批准号:
      51371159
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      80.0万元
    • 批准年份:
      2013
    • 负责人:
      胡吉明
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金