课题基金 / 基金详情

同步辐射技术研究表面熔化机理

批准号：
10174068
项目类别：
面上项目
资助金额：
24.0 万元
负责人：
韦世强
依托单位：
中国科学技术大学
学科分类：
液态、准晶与非晶态物理
结题年份：
2004
批准年份：
2001
项目状态：
已结题
项目参与者：
袁椿华、王晓光、闫文胜、范江伟、姜政
关键词：
表面熔化.同步辐射XAFSGe晶面

项目摘要

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中文摘要
高亮度同步辐射XAFS(X-射线吸收精细结构)RHEED(反射高能电子衍射)SRPES(光电子能谱)等技术研究(100)、(110)、(111)不同晶面取向Ge晶体薄膜和Ge量子点/Si(111)在表面熔化前蠹肮讨械脑雍偷缱咏峁沟牟钜欤肿恿ρХ椒扑鉍e熔化前后的结构和性质，比较实楹屠砺鄣难芯拷峁⑾嗷ビ≈ぁ４釉臃肿铀饺鲜镀浔砻嫒刍氖抵屎臀⒐刍怼?.
英文摘要
快速连续测量同步辐射技术研究非平衡态下的反应动力学
  • 批准号：
    12135012
  • 项目类别：
    重点项目
  • 资助金额：
    320万元
  • 批准年份：
    2021
  • 负责人：
    韦世强
  • 依托单位：
    中国科学技术大学
同步辐射实时在线研究光电催化剂界面水分解反应的过程
  • 批准号：
    21533007
  • 项目类别：
    重点项目
  • 资助金额：
    300.0万元
  • 批准年份：
    2015
  • 负责人：
    韦世强
  • 依托单位：
    中国科学技术大学
时空分辨同步辐射新方法及其功能材料的动力学研究
  • 批准号：
    11135008
  • 项目类别：
    重点项目
  • 资助金额：
    360.0万元
  • 批准年份：
    2011
  • 负责人：
    韦世强
  • 依托单位：
    中国科学技术大学
同步辐射时间分辨技术及其应用研究
  • 批准号：
    10635060
  • 项目类别：
    重点项目
  • 资助金额：
    220.0万元
  • 批准年份：
    2006
  • 负责人：
    韦世强
  • 依托单位：
    中国科学技术大学
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