感光薄膜与微光学器件制备

以集成光电子和光学器件用的SiO2和Al2O3薄膜为对象，首先合成硅和铝的金属配位化合物，使这种化合物具有紫外感光性，以此为原料用溶胶－凝胶法制备具有紫外感光性和高度光学分辨率的SiO2基和Al2O3基凝胶薄膜，并使薄膜的厚度达到5微米以上或光学分辨率达到2000条线/毫米。利用薄膜自身的感光特性结合紫外光照、有机溶洗、热处理制备光导薄膜微细图形。进一步采用多束紫外激光干涉法探讨高密度无机薄膜光栅，二维格子和二维光学阵列制备新方法。这一方法与传统微细图形制备最大的区别是无需光致抗蚀剂，无需干法或湿法刻蚀，而是利用薄膜自身的感光性。通过选择合适的金属配位体不仅可以调整薄膜的厚度，也可调整薄膜的感光度和光学分辨率。厚膜微细图形在集成光学器件，等离子显示器基板障壁等方面有重要应用，高分辨率薄膜结和紫外激光干涉可以获得纳米级的光学阵列格点，对于探索新型高密度光栅和微型光电子器件的制备具有重要意义。