钇稳定氧化锆(YSZ)衬底上硅薄膜生长及其性能研究
批准号：
68676026
项目类别：
面上项目
资助金额：
4.0 万元
负责人：
郁元桓
依托单位：
学科分类：
半导体科学与信息器件
结题年份：
1989
批准年份：
1986
项目状态：
已结题
项目参与者：
郁元桓的其他基金
相似基金
相关文献
双异质外延Si/r-Al2O3/Si薄膜生长及其性能研究
-
批准号：69076407
-
项目类别：面上项目
-
资助金额：5.6万元
-
批准年份：1990
-
负责人：郁元桓
-
依托单位：
国内基金
海外基金