电子束抗蚀剂Calixarence的特性及其在纳米尺度电子束光刻中的应用研究
批准号：
60506008
项目类别：
青年科学基金项目
资助金额：
7.0 万元
负责人：
任黎明
依托单位：
学科分类：
集成电路器件、制造与封装
结题年份：
2006
批准年份：
2005
项目状态：
已结题
项目参与者：
许晓燕、于民、冀会辉、周毅、田豫、安霞、周发龙
项目摘要
结项摘要
项目成果
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中文摘要
纳米尺度图形的制备是纳米特征尺寸集成电路及器件研制的基础和关键。新型电子束抗蚀剂Calixarene具有非常好的应用前景，在纳米尺度图形加工中将发挥积极作用。然而目前国际上关于Calixarene在电子束光刻及刻蚀技术中的理论与实验研究尚不多见，国内尚未见有使用的报导。本课题将在深入研究Calixarene的物理与化学性能、弄清电子束与其相互作用机理的基础上，建立适用于纳米尺度电子束光刻的电子散射
英文摘要
期刊论文列表
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专利列表
DOI：
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发表时间：
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期刊：
电子学报
影响因子：
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作者：
[任黎明, 陈宝钦, 赵珉, 许晓燕]
通讯作者：
许晓燕
DOI：
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发表时间：
--
期刊：
近期拟投半导体学报
影响因子：
--
作者：
[任黎明, 陈宝钦, 赵珉, 许晓燕]
通讯作者：
许晓燕
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电气的蒙特卡罗模拟
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DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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作者：
[Liming Ren, Baoqin Chen, Min Y]
通讯作者：
Liming Ren, Baoqin Chen, Min Y
超浅结等离子体掺杂的分子动力学模拟研究
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批准号：61076095
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项目类别：面上项目
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资助金额：16.0万元
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批准年份：2010
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负责人：任黎明
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依托单位：
国内基金
海外基金