Properties of AIN Coatings Produced by RF Sputtering Method
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射频溅射法制备的AlN涂层的性能
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Muroga
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A.Sawada;A.Suzuki;T.Terai;T.Muroga
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