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Engineering Research Equipment: Chemical Vapor Deposition System

Engineering Research Equipment: Chemical Vapor Deposition System
工程研究设备制造 : 化学气相沉积系统
批准号：
8906373
负责人：
Dorothy Skaf
金额：
$5.8万
依托单位：
Villanova University
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1989
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1989-06-01 至 1990-11-30
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8906373&HistoricalAwards=false
关键词：
EngineeringResearchEquipmentChemicalVapor

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
该奖项将允许收购化学气相沉积 用于低温沉积薄涂层系统 难熔金属碳化物和氮化物膜。 的摩擦和 这些膜的磨损行为，以及它们的抵抗力， 颗粒侵蚀，将作为沉积的函数进行研究 参数和膜组成。
英文摘要
This award will allow acquisition of a chemical vapor deposition system for use in low temperature deposition of thin coatings of refractory metal carbide and nitride films. The friction and wear behavior of these films, as well as their resistance to particle erosion, will be studied as functions of deposition parameters and film composition.
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会议论文
RUI: Nanoscale Catalysts: Syntheses, Characterization and Reactivities
  • 批准号：
    0416040
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $0.0万
  • 财政年份：
    2004
  • 负责人：
    Dorothy Skaf
  • 依托单位：
    Villanova University
Research Initiation Award: Chemical Vapor Deposition for Tribological Applications
  • 批准号：
    9008414
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $5.92万
  • 财政年份：
    1990
  • 负责人：
    Dorothy Skaf
  • 依托单位：
    Villanova University
国内基金
海外基金
Research on Quantum Field Theory without a Lagrangian Description
  • 批准号：
    24ZR1403900
  • 项目类别：
    省市级项目
  • 资助金额：
    --
  • 批准年份：
    2024
  • 负责人：
    SATOSHI NAWATA
  • 依托单位：
    复旦大学
Cell Research
Cell Research
Cell Research (细胞研究)