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Fundamental Processes in Plasmas

Fundamental Processes in Plasmas
等离子体的基本过程
批准号:
9876999
负责人:
Thomas O'Neil
金额:
$277.58万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Continuing Grant
财政年份:
1999
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1999-05-15 至 2004-07-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
[98769990]这项研究的重点是等离子体中的基本过程,可以对理论进行精确的实验检验。实验使用三个现有的电子陷阱在非中性等离子体上进行。这些系统的简单性便于在理论/模拟和实验之间进行精确的比较。这使得在复杂几何形状的中性等离子体中很难有深入的理解。
英文摘要
9876999O'NeilThe research focuses on fundamental processes in plasmas for which precise experimental tests of theory can be made. Experiments are performed on non-neutral plasmas using three, existing electron traps. The simplicity of these systems facilitates precise comparisons between theory/simulation and experiment. This enables a depth of understanding rarely possible in neutral plasmas in complex geometries.
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会议论文
Fundamental Processes in Plasmas
  • 批准号:
    0903877
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $200.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    Thomas O'Neil
  • 依托单位:
FUNDAMENTAL PROCESSES IN PLASMAS
  • 批准号:
    0354979
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $300.0万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    Thomas O'Neil
  • 依托单位:
Fundamental Processes in Plasmas
  • 批准号:
    9421318
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $222.33万
  • 财政年份:
    1995
  • 负责人:
    Thomas O'Neil
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
Submesoscale Processes Associated with Oceanic Eddies
  • 批准号:
    --
  • 项目类别:
    --
  • 资助金额:
    160万元
  • 批准年份:
    2022
  • 负责人:
    董昌明
  • 依托单位: